定 價(jià):59 元
叢書(shū)名:國(guó)外電子與通信教材系列
- 作者:(美),蕭宏 著 楊銀堂 ,段寶興 譯
- 出版時(shí)間:2013/1/1
- ISBN:9787121188503
- 出 版 社:電子工業(yè)出版社
- 中圖法分類(lèi):TN305
- 頁(yè)碼:479
- 紙張:膠版紙
- 版次:2
- 開(kāi)本:16開(kāi)
《半導(dǎo)體制造技術(shù)導(dǎo)論(第2版)》共包括15章,第1章概述了半導(dǎo)體制造工藝;第2章介紹了基本的半導(dǎo)體工藝技術(shù);第3章介紹了半導(dǎo)體器件、集成電路芯片,以及早期的制造工藝技術(shù);第4章描述了晶體結(jié)構(gòu)、單晶硅晶圓生長(zhǎng),以及硅外延技術(shù);第5章討論了半導(dǎo)體工藝中的加熱過(guò)程;第6章詳細(xì)介紹了光學(xué)光刻工藝;第7章討論了半導(dǎo)體制造過(guò)程中使用的等離子體理論;第8章討論了離子注入工藝;第9章詳細(xì)介紹了刻蝕工藝;第10章介紹了基本的化學(xué)氣相沉積(CVD)和電介質(zhì)薄膜沉積工藝,以及多孔低k電介質(zhì)沉積、氣隙的應(yīng)用、原子層沉積(ALD)工藝過(guò)程;第11章介紹了金屬化工藝;第12章討論了化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)工藝;第13章介紹了工藝整合;第14章介紹了先進(jìn)的CMOS、DRAM和NAND閃存工藝流程;第15章總結(jié)了本書(shū)和半導(dǎo)體工業(yè)未來(lái)的發(fā)展。
楊銀堂,1962年生,男,河北邯鄲市人,博士,教授,博士生導(dǎo)師,畢業(yè)于西安電子科技大學(xué)半導(dǎo)體專(zhuān)業(yè)。曾先后擔(dān)任該校微電子研究所所長(zhǎng)、技術(shù)物理學(xué)院副院長(zhǎng)、微電子學(xué)院院長(zhǎng)、發(fā)展規(guī)劃處處長(zhǎng)兼“211工程”辦公室主任,校長(zhǎng)助理,兼任總裝備部軍用電子元器件專(zhuān)家組副組長(zhǎng),曾獲國(guó)家自然科學(xué)基金杰出青年基金、教育部跨世紀(jì)優(yōu)秀人才,全國(guó)模范教師和中國(guó)青年科技獎(jiǎng),入選國(guó)家“百千萬(wàn)人才工程”,F(xiàn)任西安電子科技大學(xué)副校長(zhǎng)。先后在國(guó)際國(guó)內(nèi)重要期刊上發(fā)表論文180余篇,出版專(zhuān)著4部。
段寶興,1977年生,男,陜西省大荔縣人,博士,教授。分別于2000年和2004年獲哈爾濱理工大學(xué)材料物理與化學(xué)專(zhuān)業(yè)學(xué)士和碩士學(xué)位,2007年獲電子科技大學(xué)微電子學(xué)與固體電子學(xué)博士學(xué)位。主要從事硅基功率器件與集成、寬帶隙半導(dǎo)體功率器件和45 nm后CMOS關(guān)鍵技術(shù)研究。首次在國(guó)際上提出的優(yōu)化功率器件新技術(shù)REBULF已成功應(yīng)用于橫向高壓功率器件設(shè)計(jì);與合作者提出的SOI高壓器件介質(zhì)場(chǎng)增強(qiáng)ENDILF技術(shù),成功解決了高壓器件縱向耐壓受限問(wèn)題;最近首次在國(guó)際上提出了完全3D RESURF概念并已被國(guó)際同行認(rèn)可。先后在國(guó)際國(guó)內(nèi)重要期刊上發(fā)表論文40余篇,其中30余篇次被SCI、EI檢索。擔(dān)任國(guó)際重要學(xué)術(shù)期刊IEEE Electron Device Letters,Solid-State Electronics,Micro & Nano Letters,IEEE Transactions on Power Electronics和IETE Technical Review等的審稿人。
Hong Xiao(蕭宏)1982年于中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)獲理學(xué)學(xué)士學(xué)位,1985年于中國(guó)西南物理研究所獲理學(xué)碩士學(xué)位,1985年至1989年在西南物理研究所從事等離子體物理研究,1995年于美國(guó)得克薩斯大學(xué)奧斯汀分校獲哲學(xué)博士學(xué)位。1995年至1998年在應(yīng)用材料公司任高級(jí)技術(shù)講師。1998年至2003年在摩托羅拉公司半導(dǎo)體生產(chǎn)部任高級(jí)制造工程師,并在奧斯汀社區(qū)大學(xué)講授半導(dǎo)體制造技術(shù)。2003年至2011年在漢民微測(cè)科技股份有限公司任技術(shù)專(zhuān)家,現(xiàn)于KLA-Tencor公司任技術(shù)專(zhuān)家。目前的研究興趣為電子束缺陷檢測(cè)研發(fā)和集成電路制造中的電子束缺陷檢測(cè)。任SPIE會(huì)員和講師,IEEE會(huì)員和華美半導(dǎo)體協(xié)會(huì)終身會(huì)員。已發(fā)表30多篇期刊論文和國(guó)際會(huì)議論文,擁有7項(xiàng)美國(guó)專(zhuān)利。
第1章 導(dǎo)論
1.1 集成電路發(fā)展歷史
1.1.1 世界上第一個(gè)晶體
1.1.2 世界上第一個(gè)集成電路芯片
1.1.3 摩爾定律
1.1.4 圖形尺寸和晶圓尺寸
1.1.5 集成電路發(fā)展節(jié)點(diǎn)
1.1.6 摩爾定律或超摩爾定律
1.2 集成電路發(fā)展回顧
1.2.1 材料制備
1.2.2 半導(dǎo)體工藝設(shè)備
1.2.3 測(cè)量和測(cè)試工具
1.2.4 晶圓生產(chǎn)
1.2.5 電路設(shè)計(jì)
1.2.6 光刻版的制造
1.2.7 晶圓制造
1.3 小結(jié)
1.4 參考文獻(xiàn)
1.5 習(xí)題
第2章 集成電路工藝介紹
2.1 集成電路工藝簡(jiǎn)介
2.2 集成電路的成品率
2.2.1 成品率的定義
2.2.2 成品率和利潤(rùn)
2.2.3 缺陷和成品率
2.3 無(wú)塵室技術(shù)
2.3.1 無(wú)塵室
2.3.2 污染物控制和成品率
2.3.3 無(wú)塵室的基本結(jié)構(gòu)
2.3.4 無(wú)塵室的無(wú)塵衣穿著程序
2.3.5 無(wú)塵室協(xié)議規(guī)范
2.4 集成電路工藝間基本結(jié)構(gòu)
2.4.1 晶圓的制造區(qū)
2.4.2 設(shè)備區(qū)
2.4.3 輔助區(qū)
2.5 集成電路測(cè)試與封裝
2.5.1 晶粒測(cè)試
2.5.2 芯片的封裝
2.5.3 最終的測(cè)試
2.5.4 3D封裝技術(shù)
2.6 集成電路未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)
2.7 小結(jié)
2.8 參考文獻(xiàn)
2.9 習(xí)題
第3章 半導(dǎo)體基礎(chǔ)
3.1 半導(dǎo)體基本概念
3.1.1 能帶間隙
3.1.2 晶體結(jié)構(gòu)
3.1.3 摻雜半導(dǎo)體
3.1.4 摻雜物濃度和電導(dǎo)率
3.1.5 半導(dǎo)體材料概要
3.2 半導(dǎo)體基本元器件
3.2.1 電阻
3.2.2 電容
3.2.3 二極管
3.2.4 雙載流子晶體管
3.2.5 MOSFET
3.3 集成電路芯片
3.3.1 存儲(chǔ)器
3.3.2 微處理器
3.3.3 專(zhuān)用集成電路(ASlC)
3.4 集成電路基本工藝
3.4.1 雙載流子晶體管制造過(guò)程
3.4.2 P型MOS工藝(20世紀(jì)60年代技術(shù))
3.4.3 N型MOS工藝(20世紀(jì)70年代技術(shù))
3.5 互補(bǔ)型金屬氧化物晶體管
3.5.1 CMOS電路
3.5.2 CMOS工藝(20世紀(jì)80年代技術(shù))
3.5.3 CMOS工藝(20世紀(jì)90年代技術(shù))
3.6 2000年后半導(dǎo)體工藝發(fā)展趨勢(shì)
3.7 小結(jié)
3.8 參考文獻(xiàn)
3.9 習(xí)題
……
第4章 晶圓制造
第5章 加熱工藝
第6章 光刻工藝
第7章 等離子體工藝
第8章 離子注入工藝
第9章 刻蝕工藝
第10章 化學(xué)氣相沉積與電介質(zhì)薄膜
第11章 金屬化工藝
第12章 化學(xué)機(jī)械研磨工藝
第13章 半導(dǎo)體工藝整合
第14章 IC工藝技術(shù)
第15章 半導(dǎo)體工藝發(fā)展趨勢(shì)和總結(jié)