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晶體生長微觀機理及晶體生長邊界層模型 讀者對象:本書適合于從事晶體生長、固體物理等領(lǐng)域的科技工作者和研究生使用,也可作為相應(yīng)專業(yè)本科生的教材。
傳統(tǒng)的晶體生長理論模型創(chuàng)建時,受時代限制,缺乏原位實時觀測晶體生長過程微觀結(jié)構(gòu)演化的實驗基礎(chǔ),難以真實、完整地反映晶體生長過程中微觀結(jié)構(gòu)的演化。本書突破了晶體生長機理研究的傳統(tǒng)思維,采用高溫激光顯微拉曼光譜和同步輻射X射線衍射等現(xiàn)代觀測技術(shù),從微觀尺度上,原位實時觀測晶體生長過程中微觀結(jié)構(gòu)的演化。發(fā)現(xiàn)了晶體熔融生長時,熔體(高溫溶液)和晶體之間存在熔體(高溫溶液)結(jié)構(gòu)向晶體結(jié)構(gòu)過渡的晶體生長邊界層,在邊界層內(nèi),生長基元已具有單胞結(jié)構(gòu)。生長晶面電荷靜電場的計算,證明了生長界面上存在周期性丘狀網(wǎng)格靜電場。生長基元在界面靜電場的作用下的取向獲得調(diào)整,并在靜電力的作用下準(zhǔn)確疊合到生長界面的格位上。在這些研究的基礎(chǔ)上,創(chuàng)建了原創(chuàng)性的晶體生長邊界層理論模型,模型對晶體生長過程中微觀結(jié)構(gòu)演化的各個環(huán)節(jié)都有實驗和理論描述,準(zhǔn)確反映了晶體生長微觀結(jié)構(gòu)演化的實際過程,并揭示了不少晶體生長宏觀規(guī)律或經(jīng)驗現(xiàn)象的微觀機制。
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