逆合成孔徑雷達(dá)成像是通過(guò)目標(biāo)電磁散射回波獲取尺寸、結(jié)構(gòu)的重要途徑，在稀疏孔徑條件下，逆合成孔徑雷達(dá)成像面臨旁瓣與柵瓣干擾嚴(yán)重、平動(dòng)補(bǔ)償難等科學(xué)難題。針對(duì)這些難題，本書對(duì)稀疏貝葉斯逆合成孔徑雷達(dá)成像技術(shù)進(jìn)行詳細(xì)論述。主要內(nèi)容包括稀疏貝葉斯先驗(yàn)建模、稀疏孔徑逆合成孔徑雷達(dá)自聚焦、橫向定標(biāo)、雙基逆合成孔徑雷達(dá)成像與干涉逆合成孔徑雷達(dá)成像等。本書重點(diǎn)闡述研究團(tuán)隊(duì)在稀疏孔徑逆合成孔徑雷達(dá)成像方面的研究成果，并歸納和整理國(guó)內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀和**成果。

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