《硅太陽能電池光伏材料（第2版）》內(nèi)容包括半導體基礎、太陽能電池原理、多晶硅原料制造工藝及制造方法、單晶硅棒制造工藝、多晶硅錠制造工藝、晶體硅切片工藝、硅電池片制造工藝、光伏發(fā)電系統(tǒng)。本書主要工藝原理、生產(chǎn)技術等內(nèi)容來源于真實企業(yè)生產(chǎn)實際以及科研單位最新研究成果。相對第一版增加了已有較廣泛應用的新工藝、新技術，如連續(xù)加料技術、磁控直拉技術、多柵技術、無柵技術、黑硅技術以及高效PERC、PERL、IBC等電池，對過時內(nèi)容做了刪減。
種法力，徐州工程學院，教授，主編種法力從事新能源相關課程教學10余年，多次深入光伏企業(yè)進行調研和相關技術研討、參加光伏相關學術會議，每年帶領學生到企業(yè)進行實踐教學，具備實踐經(jīng)驗
第1章緒論/001
1.1能源和經(jīng)濟001
1.23E問題004
1.3溫室效應006
1.3.1地球溫度估算006
1.3.2溫室效應本質006
1.4臭氧層空洞007
1.5酸雨008
1.6其他污染008
1.7太陽輻射009
1.8大氣質量012
1.9太陽能的利用013
1.10太陽能的優(yōu)缺點015
1.11太陽能電池的發(fā)展史016
1.12中國太陽能電池歷史及產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀與未來017
第2章半導體基礎/020
2.1半導體020
2.1.1半導體分類和特征021
2.1.2電阻率、電導率021
2.2半導體晶體結構022
2.2.1晶體特征023
2.2.2晶體結構024
2.2.3晶向與晶面025
2.2.4晶向與晶面的關系028
2.2.5結晶過程031
2.2.6晶核形成032
2.2.7晶體缺陷033
2.3固體能帶理論038
2.3.1能級038
2.3.2能帶038
2.3.3半導體導電能力能帶解釋040
2.3.4費米能級041
2.4半導體純度041
2.5半導體導電原理042
2.5.1電子、空穴042
2.5.2載流子043
2.6本征半導體045
2.7雜質半導體046
2.7.1半導體中雜質填充046
2.7.2深/淺能級雜質047
2.7.3電活性/電中性雜質047
2.7.4N型半導體047
2.7.5P型半導體049
2.7.6雜質對電阻率的影響050
2.8P-N結050
2.8.1P-N結形成050
2.8.2P-N結單向導通性052
2.8.3P-N結擊穿053
2.8.4P-N結伏安特性054
2.8.5P-N結電場和電勢055
2.8.6P-N結電容特性058
2.8.7P-N結應用060
第3章太陽能電池基本原理/061
3.1太陽能電池061
3.1.1光電效應061
3.1.2光伏效應062
3.2太陽能電池基本結構063
3.3太陽能電池表征參數(shù)064
3.4太陽能電池電路模型066
3.5半導體光吸收067
3.6量子效率070
3.7太陽能電池的光譜響應071
3.8太陽能電池轉換效率影響因素072
3.8.1光損失072
3.8.2載流子復合損失073
3.8.3電流輸出損失074
3.9太陽能電池轉換效率η極限075
3.9.1短路電流Isc極限075
3.9.2開路電壓Voc極限076
3.9.3填充因子FF極限076
3.9.4轉換效率η極限076
3.10溫度對太陽能電池的影響077
3.11太陽能電池組件的“熱斑效應”079
第4章多晶硅原料制造工藝/084
4.1太陽能電池材料選擇084
4.2硅材料特征085
4.2.1硅材料物理屬性085
4.2.2硅材料化學屬性087
4.3硅的用途087
4.4金屬硅制造088
4.4.1金屬硅制造原理088
4.4.2金屬硅制造流程090
4.4.3金屬硅生產(chǎn)影響因素093
4.4.4工業(yè)硅煙氣處理095
4.4.5金屬硅現(xiàn)狀095
4.5改良西門子法制造多晶硅097
4.5.1三氯硅烷制備098
4.5.2SiHCl3氫氣還原制備多晶硅原料102
4.5.3西門子多晶硅原料106
4.5.4硅芯107
4.5.5氫氣制備與凈化107
4.5.6氯化氫合成107
4.5.7廢氣、廢液、廢渣處理108
4.6硅烷法制造多晶硅109
4.6.1硅烷性質109
4.6.2流化床法110
4.6.3硅烷熱分解法114
4.7多晶硅其他制備方法115
第5章單晶硅棒制造工藝/117
5.1直拉法制造單晶硅棒117
5.1.1直拉單晶爐117
5.1.2熱場121
5.1.3熱場溫度梯度124
5.1.4拆爐127
5.1.5熱場安裝和煅燒129
5.1.6石英坩堝131
5.1.7籽晶133
5.1.8直拉單晶硅料133
5.1.9直拉單晶流程135
5.1.10熔體對流142
5.1.11雜質分凝143
5.1.12硅中雜質144
5.1.13電阻率均勻性控制149
5.1.14晶體雜質條紋151
5.1.15摻雜151
5.1.16單晶硅良率控制153
5.1.17單晶車間生產(chǎn)事故及處理154
5.2連續(xù)加料直拉法155
5.3磁控直拉法156
5.3.1磁控直拉法原理157
5.3.2磁控直拉法磁場157
5.4懸浮區(qū)熔法制造單晶硅棒159
5.4.1懸浮區(qū)熔原理159
5.4.2熔硅穩(wěn)定問題159
5.4.3中子嬗變摻雜160
5.4.4懸浮區(qū)熔單晶爐161
5.5無接觸坩堝技術162
5.6液體覆蓋直拉技術162
第6章多晶硅錠鑄造工藝/163
6.1多晶硅發(fā)展163
6.2多晶硅錠鑄造原理163
6.3定向凝固傳熱分析164
6.4布里曼法165
6.5熱交換法165
6.5.1熱交換爐166
6.5.2鑄造硅錠工藝流程168
6.6澆鑄法171
6.7電磁鑄造法172
6.8多晶硅錠摻雜173
6.9多晶硅錠溫度影響174
6.10多晶硅錠雜質174
6.10.1非金屬雜質174
6.10.2金屬雜質176
6.11多晶硅錠缺陷176
第7章晶體硅切片工藝/178
7.1硅片分類178
7.2硅片切片流程179
7.2.1光伏硅切片179
7.2.2晶圓單晶硅切片184
7.3砂漿線切割188
7.4金剛石線切割190
7.5少子壽命192
7.5.1微波光電導衰減法193
7.5.2高頻光電導衰減法195
7.6體電阻率196
7.6.1半無窮大樣品體電阻率196
7.6.2薄層樣品電阻率197
7.7硅片等級標準198
7.8硅帶制造技術200
7.9直拉硅片技術202
第8章硅電池片制造工藝/204
8.1晶體硅太陽能電池204
8.2基板材料205
8.3表面制絨206
8.3.1硅片清洗206
8.3.2制絨意義和原理206
8.3.3單晶硅制絨207
8.3.4單晶硅制絨設備和流程211
8.3.5多晶硅制絨212
8.3.6多晶硅制絨設備和流程213
8.3.7絨面檢測216
8.4擴散制P-N結217
8.4.1擴散機制217
8.4.2擴散方程219
8.4.3擴散系數(shù)219
8.4.4擴散分類220
8.4.5磷擴散制結223
8.4.6磷擴散工藝224
8.4.7硅片檢驗226
8.4.8等離子體刻蝕229
8.4.9去除磷硅玻璃230
8.5減反射膜α-SiNx∶H230
8.5.1減反射膜原理230
8.5.2減反射膜材料232
8.5.3α-SiNx∶H性質233
8.5.4α-SiNx∶H制備235
8.5.5α-SiNx∶H 檢驗239
8.6SiNx表面鈍化239
8.6.1鈍化原理239
8.6.2氫鈍化作用241
8.6.3SiNx厚度與少子壽命關系241
8.7絲網(wǎng)印刷及燒結工藝242
8.7.1絲網(wǎng)印刷原理242
8.7.2印刷設備及參數(shù)243
8.7.3絲網(wǎng)印刷步驟246
8.7.4絲網(wǎng)印刷檢驗247
8.7.5燒結248
8.7.6燒結檢驗249
8.8柵線技術249
8.9多晶黑硅技術253
8.10高效硅電池254
8.10.1P型PERC電池255
8.10.2PERT和PERL電池256
8.10.3HIT電池259
8.10.4IBC電池260
8.10.5HJBC電池261
8.10.6HJBC-POLO電池262
8.10.7TOPCon電池263
第9章光伏發(fā)電系統(tǒng)/265
9.1光伏發(fā)電系統(tǒng)組成要素265
9.2太陽能電池組件268
9.2.1封裝材料269
9.2.2組件制造過程273
9.3光伏陣列279
9.3.1光伏陣列輸出特性279
9.3.2光伏陣列尺寸279
9.3.3最大功率點跟蹤控制280
9.4并網(wǎng)發(fā)電系統(tǒng)283
9.4.1并網(wǎng)發(fā)電分類283
9.4.2并網(wǎng)發(fā)電優(yōu)缺點285
9.4.3孤島效應286
9.4.4光伏建筑一體化286
9.5獨立系統(tǒng)289
9.6混合系統(tǒng)289
9.7太陽能光伏發(fā)電系統(tǒng)設計291
9.7.1獨立系統(tǒng)容量設計292
9.7.2混合系統(tǒng)設計295
9.7.3并網(wǎng)系統(tǒng)設計296
9.7.4光伏組件傾角296
9.7.5太陽能電池方陣間距298
參考文獻/300
附錄/301
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