目 錄
第1部分　概念和技術(shù)
第1章 從摩爾定律到功能密度定律 3
1.1 摩爾定律 3
1.2 摩爾定律面臨的兩個問題 4
1.2.1 微觀尺度的縮小 4
1.2.2 宏觀資源的消耗 6
1.3 功能密度定律 10
1.3.1 功能密度定律的描述 10
1.3.2 電子系統(tǒng)6級分類法 11
1.3.3 摩爾定律和功能密度定律的比較 13
1.3.4 功能密度定律的應(yīng)用 14
1.3.5 功能密度定律的擴展 17
1.4 廣義功能密度定律 17
1.4.1 系統(tǒng)空間定義 18
1.4.2 地球空間和人類宇宙空間 18
1.4.3 廣義功能密度定律 20
第2章 從SiP到Si3P 21
2.1 概念深入：從SiP到Si3P 21
2.2 Si3P之integration 23
2.2.1 IC層面集成 23
2.2.2 PCB層面集成 26
2.2.3 封裝層面集成 28
2.2.4 集成（Integration）小結(jié) 30
2.3 Si3P之interconnection 31
2.3.1 電磁互聯(lián) 31
2.3.2 熱互聯(lián) 36
2.3.3 力互聯(lián) 37
2.3.4 互聯(lián)（interconnection）小結(jié) 39
2.4 Si3P之intelligence 39
2.4.1 系統(tǒng)功能定義 40
2.4.2 產(chǎn)品應(yīng)用場景 41
2.4.3 測試和調(diào)試 41
2.4.4 軟件和算法 42
2.4.5 智能（intelligence）小結(jié) 44
2.5 Si3P總結(jié) 44
2.5.1 歷史回顧 44
2.5.2 聯(lián)想比喻 45
2.5.3 前景預測 46
第3章 SiP技術(shù)與微系統(tǒng) 47
3.1 SiP技術(shù) 47
3.1.1 SiP技術(shù)的定義 47
3.1.2 SiP及其相關(guān)技術(shù) 48
3.1.3 SiP還是SOP 50
3.1.4 SiP技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域 51
3.1.5 SiP工藝和材料的選擇 55
3.2 微系統(tǒng) 57
3.2.1 自然系統(tǒng)和人造系統(tǒng) 57
3.2.2 系統(tǒng)的定義和特征 58
3.2.3 微系統(tǒng)的新定義 59
第4章 從2D到4D集成技術(shù) 61
4.1 集成技術(shù)的發(fā)展 61
4.1.1 集成的尺度 61
4.1.2 一步集成和兩步集成 62
4.1.3 封裝內(nèi)集成的分類命名 63
4.2 2D集成技術(shù) 64
4.2.1 2D集成的定義 64
4.2.2 2D集成的應(yīng)用 64
4.3 2D+集成技術(shù) 65
4.3.1 2D+集成的定義 65
4.3.2 2D+集成的應(yīng)用 66
4.4 2.5D集成技術(shù) 67
4.4.1 2.5D集成的定義 67
4.4.2 2.5D集成的應(yīng)用 67
4.5 3D集成技術(shù) 68
4.5.1 3D集成的定義 68
4.5.2 3D集成的應(yīng)用 69
4.6 4D集成技術(shù) 70
4.6.1 4D集成的定義 70
4.6.2 4D集成的應(yīng)用 71
4.6.3 4D集成的意義 73
4.7 腔體集成技術(shù) 73
4.7.1 腔體集成的定義 73
4.7.2 腔體集成的應(yīng)用 74
4.8 平面集成技術(shù) 76
4.8.1 平面集成技術(shù)的定義 76
4.8.2 平面集成技術(shù)的應(yīng)用 76
4.9 集成技術(shù)總結(jié) 78
第5章 SiP與先進封裝技術(shù) 80
5.1 SiP基板與封裝 80
5.1.1 有機基板 80
5.1.2 陶瓷基板 82
5.1.3 硅基板 85
5.2 與先進封裝相關(guān)的技術(shù) 85
5.2.1 TSV技術(shù) 86
5.2.2 RDL技術(shù) 87
5.2.3 IPD技術(shù) 88
5.2.4 Chiplet技術(shù) 89
5.3 先進封裝技術(shù) 92
5.3.1 基于XY平面延伸的先進封裝技術(shù) 93
5.3.2 基于Z軸延伸的先進封裝技術(shù) 96
5.3.3 先進封裝技術(shù)總結(jié) 103
5.3.4 先進封裝的四要素：RDL、TSV、Bump和Wafer 104
5.4 先進封裝的特點和SiP設(shè)計需求 105
5.4.1 先進封裝的特點 105
5.4.2 先進封裝與SiP的關(guān)系 106
5.4.3 先進封裝和SiP設(shè)計需求 107
第1部分參考資料及說明 108
第2部分 設(shè)計和仿真
第6章 SiP設(shè)計仿真驗證平臺 111
6.1 SiP設(shè)計技術(shù)的發(fā)展 111
6.2 SiP設(shè)計的兩套流程 112
6.3 通用SiP設(shè)計流程 112
6.3.1 原理圖設(shè)計輸入 112
6.3.2 多版圖協(xié)同設(shè)計 112
6.3.3 SiP版圖設(shè)計9大功能 113
6.4 基于先進封裝HDAP的SiP設(shè)計流程 118
6.4.1 設(shè)計整合及網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化工具XSI 119
6.4.2 先進封裝版圖設(shè)計工具XPD 120
6.5 設(shè)計師如何選擇設(shè)計流程 121
6.6 SiP仿真驗證流程 122
6.6.1 電磁仿真 122
6.6.2 熱學仿真 124
6.6.3 力學仿真 125
6.6.4 設(shè)計驗證 125
6.7 SiP設(shè)計仿真驗證平臺的先進性 127
第7章 中心庫的建立和管理 129
7.1 中心庫的結(jié)構(gòu) 129
7.2 Dashboard介紹 130
7.3 原理圖符號（Symbol）庫的建立 131
7.4 版圖單元（Cell）庫的建立 136
7.4.1 裸芯片Cell庫的建立 136
7.4.2 SiP封裝Cell庫的建立 141
7.5 Part庫的建立和應(yīng)用 145
7.5.1 映射Part庫 145
7.5.2 通過Part創(chuàng)建Cell庫 147
7.6 中心庫的維護和管理 148
7.6.1 中心庫常用設(shè)置項 149
7.6.2 中心庫數(shù)據(jù)導入導出 149
第8章 SiP原理圖設(shè)計輸入 152
8.1 網(wǎng)表輸入 152
8.2 原理圖設(shè)計輸入 154
8.2.1 原理圖工具介紹 154
8.2.2 創(chuàng)建原理圖項目 162
8.2.3 原理圖基本操作 163
8.2.4 原理圖設(shè)計檢查 167
8.2.5 設(shè)計打包Package 169
8.2.6 輸出元器件列表Partlist 172
8.2.7 原理圖中文菜單和中文輸入 173
8.3 基于DataBook的原理圖輸入 175
8.3.1 DataBook介紹 175
8.3.2 DataBook使用方法 176
8.3.3 元器件屬性的校驗和更新 178
8.4 文件輸入/輸出 179
8.4.1 通用輸入/輸出 179
8.4.2 輸出到仿真工具 181
第9章 版圖的創(chuàng)建與設(shè)置 183
9.1 創(chuàng)建版圖模板 183
9.1.1 版圖模板定義 183
9.1.2 創(chuàng)建SiP版圖模板 184
9.2 創(chuàng)建版圖項目 194
9.2.1 創(chuàng)建新的SiP項目 194
9.2.2 進入版圖設(shè)計環(huán)境 195
9.3 版圖相關(guān)設(shè)置與操作 196
9.3.1 版圖License控制介紹 196
9.3.2 鼠標操作方法 197
9.3.3 四種常用操作模式 199
9.3.4 顯示控制（Display Control） 202
9.3.5 編輯控制（Editor Control） 207
9.3.6 智能光標提示 213
9.4 版圖布局 213
9.4.1 元器件布局 213
9.4.2 查看原理圖 217
9.5 封裝引腳定義優(yōu)化 218
9.6 版圖中文輸入 218
第10章 約束規(guī)則管理 221
10.1 約束管理器（Constraint Manager） 221
10.2 方案（Scheme） 222
10.2.1 創(chuàng)建方案 223
10.2.2 在版圖設(shè)計中應(yīng)用Scheme 223
10.3 網(wǎng)絡(luò)類規(guī)則（Net Class） 224
10.3.1 創(chuàng)建網(wǎng)絡(luò)類并指定網(wǎng)絡(luò)到網(wǎng)絡(luò)類 224
10.3.2 定義網(wǎng)絡(luò)類規(guī)則 225
10.4 間距規(guī)則（Clearance） 226
10.4.1 間距規(guī)則的創(chuàng)建與設(shè)置 226
10.4.2 通用間距規(guī)則 227
10.4.3 網(wǎng)絡(luò)類到網(wǎng)絡(luò)類間距規(guī)則 228
10.5 約束類（Constraint Class） 229
10.5.1 新建約束類并指定網(wǎng)絡(luò)到約束類 229
10.5.2 電氣約束分類 230
10.5.3 編輯約束組 231
10.6 Constraint Manager和版圖數(shù)據(jù)交互 232
10.6.1 更新版圖數(shù)據(jù) 232
10.6.2 與版圖數(shù)據(jù)交互 233
10.7 規(guī)則設(shè)置實例 233
10.7.1 等長約束設(shè)置 233
10.7.2 差分約束設(shè)置 236
10.7.3 Z軸間距設(shè)置 237
第11章 Wire Bonding設(shè)計詳解 239
11.1 Wire Bonding概述 239
11.2 Bond Wire 模型 240
11.2.1 Bond Wire模型定義 241
11.2.2 Bond Wire模型參數(shù) 245
11.3 Wire Bonding工具欄及其應(yīng)用 246
11.3.1 手動添加Bond Wire 246
11.3.2 移動、推擠及旋轉(zhuǎn)Bond Finger 247
11.3.3 自動生成Bond Wire 248
11.3.4 通過導引線添加Bond Wire 249
11.3.5 添加Power Ring 251
11.4 Bond Wire規(guī)則設(shè)置 252
11.4.1 針對Component的設(shè)置 253
11.4.2 針對Die Pin的設(shè)置 256
11.4.3 在Die Pin和Bond Finger之間添加多根Bond Wire 258
11.4.4 從單個Die Pin扇出多根Bond Wire到多個Bond Finger 258
11.4.5 多個Die Pin同時鍵合到一個Bond Finger上 259
11.4.6 Die to Die Bonding 259
11.5 Wire Model Editor和Wire Instance Editor 261
第12章 腔體、芯片堆疊及TSV設(shè)計 265
12.1 腔體設(shè)計 265
12.1.1 腔體的定義 265
12.1.2 腔體的創(chuàng)建 267
12.1.3 將芯片放置到腔體中 269
12.1.4 在腔體中鍵合 270
12.1.5 通過腔體將分立式元器件埋入基板 271
12.1.6 在Die Cell中添加腔體實現(xiàn)元器件埋入 273
12.2 芯片堆疊設(shè)計 275
12.2.1 芯片堆疊的概念 275
12.2.2 芯片堆疊的創(chuàng)建 276
12.2.3 并排堆疊芯片 277
12.2.4 芯片堆疊的調(diào)整及鍵合 278
12.2.5 芯片和腔體組合設(shè)計 279
12.3 2.5D TSV的概念和設(shè)計 281
12.4 3D TSV的概念和設(shè)計 281
12.4.1 3D TSV的概念 281
12.4.2 3D TSV Cell創(chuàng)建 283
12.4.3 芯片堆疊間引腳對齊原則 284
12.4.4 3D TSV堆疊并互聯(lián) 284
12.4.5 3D 引腳模型的設(shè)置 286
12.4.6 網(wǎng)絡(luò)優(yōu)化并布線 287
12.4.7 DRC檢查并完成3D TSV設(shè)計 289
第13章 RDL及Flip Chip設(shè)計 291
13.1 RDL的概念和應(yīng)用 291
13.1.1 Fan-In型RDL 292
13.1.2 Fan-Out型RDL 293
13.2 Flip Chip的概念及特點 294
13.3 RDL設(shè)計 295
13.3.1 Bare Die及RDL庫的建立 295
13.3.2 RDL原理圖設(shè)計 297
13.3.3 RDL版圖設(shè)計 297
13.4 Flip Chip設(shè)計 301
13.4.1 Flip Chip原理圖設(shè)計 301
13.4.2 Flip Chip版圖設(shè)計 302
第14章 版圖布線與敷銅 307
14.1 版圖布線 307
14.1.1 布線綜述 307
14.1.2 手工布線 307
14.1.3 半自動布線 312
14.1.4 自動布線 315
14.1.5 差分對布線 316
14.1.6 長度控制布線 319
14.1.7 電路復制 323
14.2 版圖敷銅 325
14.2.1 敷銅定義 325
14.2.2 敷銅設(shè)置 325
14.2.3 繪制并生成敷銅數(shù)據(jù) 328
14.2.4 生成敷銅排氣孔 331
14.2.5 檢查敷銅數(shù)據(jù) 333
第15章 埋入式無源器件設(shè)計 334
15.1 埋入式元器件技術(shù)的發(fā)展 334
15.1.1 分立式埋入技術(shù) 334
15.1.2 平面埋入式技術(shù) 336
15.2 埋入式無源器件的工藝和材料 336
15.2.1 埋入工藝Processes 337
15.2.2 埋入材料Materials 342
15.2.3 電阻材料的非線性特征 346
15.3 無源器件自動綜合 347
15.3.1 自動綜合前的準備 347
15.3.2 電阻自動綜合 349
15.3.3 電容自動綜合 353
15.3.4 自動綜合后版圖原理圖同步 357
第16章 RF電路設(shè)計 359
16.1 RF SiP技術(shù) 359
16.2 RF設(shè)計流程 360
16.3 RF元器件庫的配置 360
16.3.1 導入RF符號到設(shè)計中心庫 360
16.3.2 中心庫分區(qū)搜索路徑設(shè)置 361
16.4 RF原理圖設(shè)計 362
16.4.1 RF原理圖工具欄 362
16.4.2 RF原理圖輸入 364
16.5 原理圖與版圖RF參數(shù)的相互傳遞 365
16.6 RF版圖設(shè)計 368
16.6.1 RF版圖工具箱 368
16.6.2 RF單元的3種類型 369
16.6.3 Meander的繪制及編輯 370
16.6.4 創(chuàng)建用戶自定義的RF單元 372
16.6.5 Via添加功能 374
16.6.6 RF Group介紹 376
16.6.7 Auto Arrange功能 377
16.6.8 通過鍵合線連接RF單元 377
16.7 與RF仿真工具連接并傳遞數(shù)據(jù) 378
16.7.1 連接RF仿真工具 378
16.7.2 原理圖RF數(shù)據(jù)傳遞 380
16.7.3 版圖RF數(shù)據(jù)傳遞 381
第17章 剛?cè)犭娐泛?D SiP設(shè)計 383
17.1 剛?cè)犭娐方榻B 383
17.2 剛?cè)犭娐吩O(shè)計 384
17.2.1 剛?cè)犭娐吩O(shè)計流程 384
17.2.2 剛?cè)犭娐诽赜械膶宇愋?384
17.2.3 剛?cè)犭娐吩O(shè)計步驟 385
17.3 復雜基板技術(shù) 394
17.3.1 復雜基板的定義 394
17.3.2 復雜基板的應(yīng)用 394
17.4 基于4D集成的SiP設(shè)計 395
17.4.1 4D集成SiP基板定義 395
17.4.2 4D集成SiP設(shè)計流程 396
17.5 4D SiP設(shè)計的意義 400
第18章 多版圖項目與多人協(xié)同設(shè)計 401
18.1 多版圖項目 401
18.1.1 多版圖項目設(shè)計需求 401
18.1.2 多版圖項目設(shè)計流程 402
18.2 原理圖多人協(xié)同設(shè)計 405
18.2.1 原理圖協(xié)同設(shè)計的思路 405
18.2.2 原理圖協(xié)同設(shè)計的操作方法 406
18.3 版圖多人實時協(xié)同設(shè)計 409
18.3.1 版圖實時協(xié)同軟件的配置 411
18.3.2 啟動并應(yīng)用版圖實時協(xié)同設(shè)計 412
第19章 基于先進封裝（HDAP）的SiP設(shè)計流程 415
19.1 先進封裝設(shè)計流程介紹 415
19.1.1 HDAP設(shè)計環(huán)境需要的技術(shù)指標 415
19.1.2 HDAP設(shè)計流程 416
19.1.3 設(shè)計任務(wù)HBM（3D+2.5D） 417
19.2 XSI設(shè)計環(huán)境 418
19.2.1 設(shè)計數(shù)據(jù)準備 418
19.2.2 XSI常用工作窗口介紹 419
19.2.3 創(chuàng)建項目和設(shè)計并添加元器件 420
19.2.4 通過XSI優(yōu)化網(wǎng)絡(luò)連接 428
19.2.5 版圖模板選擇 429
19.2.6 設(shè)計傳遞 431
19.3 XPD設(shè)計環(huán)境 432
19.3.1 Interposer數(shù)據(jù)同步檢查 432
19.3.2 Interposer布局布線 433
19.3.3 Substrate數(shù)據(jù)同步檢查 434
19.3.4 Substrate布局布線 435
19.4 3D數(shù)字化樣機模擬 436
19.4.1 數(shù)字化樣機的概念 436
19.4.2 3D View環(huán)境介紹 437
19.4.3 構(gòu)建HDAP數(shù)字化樣機模型 438
第20章 設(shè)計檢查和生產(chǎn)數(shù)據(jù)輸出 444
20.1 Online DRC 444
20.2 Batch DRC 445
20.2.1 DRC Settings選項卡 445
20.2.2 Connectivity and Special Rules選項卡 447
20.2.3 Batch DRC方案 448
20.3 Hazard Explorer介紹 449
20.4 設(shè)計庫檢查 453
20.5 生產(chǎn)數(shù)據(jù)輸出類型 453
20.6 Gerber和鉆孔數(shù)據(jù)輸出 454
20.6.1 輸出鉆孔數(shù)據(jù) 454
20.6.2 設(shè)置Gerber文件格式 457
20.6.3 輸出Gerber文件 458
20.6.4 導入并檢查Gerber文件 460
20.7 GDS文件和Color Map輸出 461
20.7.1 GDS文件輸出 461
20.7.2 Color Map輸出 462
20.8 其他生產(chǎn)數(shù)據(jù)輸出 463
20.8.1 元器件及Bond Wire坐標文件輸出 463
20.8.2 DXF文件輸出 465
20.8.3 版圖設(shè)計狀態(tài)輸出 465
20.8.4 BOM輸出 466
第21章 SiP仿真驗證技術(shù) 468
21.1 SiP仿真驗證技術(shù)概述 468
21.2 信號完整性（SI）仿真 469
21.2.1 HyperLynx SI 信號完整性仿真工具介紹 469
21.2.2 HyperLynx SI 信號完整性仿真實例分析 471
21.3 電源完整性（PI）仿真 476
21.3.1 HyperLynx PI 電源完整性仿真工具介紹 477
21.3.2 HyperLynx PI 電源完整性仿真實例分析 478
21.4 熱分析（Thermal）仿真 483
21.4.1 HyperLynx Thermal熱分析軟件介紹 484
21.4.2 HyperLynx Thermal熱仿真實例分析 484
21.4.3 FloTHERM軟件介紹 488
21.4.4 T3Ster熱測試設(shè)備介紹 489
21.5 先進3D解算器 491
21.5.1 全波解算器（Full-Wave Solver）介紹 491
21.5.2 快速3D解算器（Fast 3D Solver）介紹 491
21.6 數(shù)/�；旌想娐贩抡� 492
21.7 電氣規(guī)則驗證 493
21.7.1 HyperLynx DRC工具介紹 493
21.7.2 電氣規(guī)則驗證實例 494
21.8 HDAP物理驗證 499
21.8.1 Calibre 3DSTACK工具介紹 499
21.8.2 HDAP物理驗證實例 500
第2部分參考資料及說明 506
第3部分 項目和案例
第22章 基于SiP技術(shù)的大容量存儲芯片設(shè)計案例 509
22.1 大容量存儲器在航天產(chǎn)品中的應(yīng)用現(xiàn)狀 509
22.2 SiP技術(shù)應(yīng)用的可行性分析 510
22.2.1 裸芯片選型 510
22.2.2 設(shè)計仿真工具選型 512
22.2.3 生產(chǎn)測試廠家選擇 512
22.3 基于SiP技術(shù)的大容量存儲芯片設(shè)計 513
22.3.1 方案設(shè)計 513
22.3.2 詳細設(shè)計 514
22.4 大容量存儲芯片封裝和測試 519
22.4.1 芯片封裝 519
22.4.2 機臺測試 522
22.4.3 系統(tǒng)測試 523
22.4.4 后續(xù)測試及成本比例 523
22.5 新舊產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)比較 525
第23章 SiP項目規(guī)劃及設(shè)計案例 526
23.1 SiP項目規(guī)劃 526
23.1.1 SiP的特點和適用性 526
23.1.2 SiP項目需要明確的因素 529
23.2 設(shè)計規(guī)則導入 530
23.2.1 項目要求及方案分析 530
23.2.2 SiP實現(xiàn)方案 532
23.3 SiP產(chǎn)品設(shè)計 534
23.3.1 符號及單元庫設(shè)計 534
23.3.2 原理設(shè)計 535
23.3.3 版圖設(shè)計 535
23.3.4 產(chǎn)品封裝測試 538
第24章 2.5D TSV技術(shù)及設(shè)計案例 539
24.1 2.5D集成的需求 539
24.2 傳統(tǒng)封裝工藝與2.5D集成的對比 539
24.2.1 倒裝焊（Flip Chip）工藝 539
24.2.2 引線鍵合（Wire Bonding）工藝 540
24.2.3 傳統(tǒng)工藝與2.5D集成的優(yōu)劣勢分析 541
24.3 2.5D TSV轉(zhuǎn)接板設(shè)計 542
24.3.1 2.5D TSV轉(zhuǎn)接板封裝結(jié)構(gòu) 542
24.3.2 2.5D轉(zhuǎn)接板封裝設(shè)計實現(xiàn) 543
24.4 轉(zhuǎn)接板、有機基板工藝流程比較 544
24.4.1 硅基轉(zhuǎn)接板 544
24.4.2 玻璃基轉(zhuǎn)接板 545
24.4.3 有機材料基板 546
24.4.4 兩種轉(zhuǎn)接板及有機基板工藝能力比較 546
24.5 掩模版工藝流程簡介 546
24.6 2.5D硅轉(zhuǎn)接板設(shè)計、仿真、制造案例 547
24.6.1 封裝結(jié)構(gòu)設(shè)計 547
24.6.2 封裝布線、信號及結(jié)構(gòu)仿真 549
24.6.3 生產(chǎn)數(shù)據(jù)Tape Out及掩模版準備 552
24.6.4 轉(zhuǎn)接板的加工及整體組裝 553
第25章 數(shù)字T/R組件SiP設(shè)計案例 554
25.1 雷達系統(tǒng)簡介 554
25.2 SiP技術(shù)的采用 555
25.3 數(shù)字T/R組件電路設(shè)計 556
25.3.1 數(shù)字T/R組件的功能簡介 556
25.3.2 數(shù)字T/R組件的結(jié)構(gòu)及原理設(shè)計 557
25.3.3 數(shù)字T/R組件的SiP版圖設(shè)計 559
25.4 金屬殼體及一體化封裝設(shè)計 560
第26章 MEMS驗證SiP設(shè)計案例 563
26.1 項目介紹 563
26.2 SiP方案設(shè)計 563
26.3 SiP電路設(shè)計 564
26.3.1 建庫及原理圖設(shè)計 565
26.3.2 SiP版圖設(shè)計 566
26.4 產(chǎn)品組裝及測試 571
第27章 基于剛?cè)峄�板的SiP設(shè)計案例 572
27.1 剛?cè)峄�板技術(shù)概述 572
27.2 射頻前端系統(tǒng)架構(gòu)和RF SiP方案 573
27.2.1 微基站系統(tǒng)射頻前端架構(gòu) 573
27.2.2 RF SiP封裝選型 574
27.2.3 RF SiP基板層疊設(shè)計 575
27.3 基于剛?cè)峄�板RF SiP電學設(shè)計仿真 576
27.3.1 信號完整性設(shè)計和仿真 576
27.3.2 電源完整性設(shè)計與仿真 579
27.4 基于剛?cè)峄�板RF SiP的熱設(shè)計仿真 581
27.4.1 封裝結(jié)構(gòu)的熱阻網(wǎng)絡(luò)分析 581
27.4.2 RF SiP的熱性能仿真研究 583
27.5 基于剛?cè)峄�板RF SiP的工藝組裝實現(xiàn) 587
第28章 射頻系統(tǒng)集成SiP設(shè)計案例 589
28.1 射頻系統(tǒng)集成技術(shù) 589
28.1.1 射頻系統(tǒng)簡介 589
28.1.2 射頻系統(tǒng)集成的小型化趨勢 590
28.1.3 RF SiP和RF SoC 592
28.2 射頻系統(tǒng)集成SiP的設(shè)計與仿真 594
28.2.1 RF SiP封裝結(jié)構(gòu)設(shè)計 594
28.2.2 RF SiP電學互連設(shè)計與仿真 595
28.2.3 RF SiP的散熱管理與仿真 597
28.4 射頻系統(tǒng)集成SiP的組裝與測試 598
28.4.1 RF SiP的組裝 598
28.4.2 RF SiP的測試 599
第29章 基于PoP的RF SiP設(shè)計案例 602
29.1 PoP技術(shù)簡介 602
29.2 射頻系統(tǒng)架構(gòu)與指標 603
29.3 RF SiP結(jié)構(gòu)與基板設(shè)計 606
29.3.1 結(jié)構(gòu)設(shè)計 606
29.3.2 基板設(shè)計 607
29.4 RF SiP信號完整性與電源完整性仿真 610
29.4.1 信號完整性（SI）仿真 610
29.4.2 電源完整性（PI）仿真 610
29.5 RF SiP熱設(shè)計仿真 612
29.6 RF SiP組裝與測試 613
第30章 SiP基板生產(chǎn)數(shù)據(jù)處理案例 616
30.1 LTCC、厚膜及異質(zhì)異構(gòu)集成技術(shù)介紹 616
30.1.1 LTCC技術(shù) 616
30.1.2 厚膜技術(shù) 617
30.1.3 異質(zhì)異構(gòu)集成技術(shù) 617
30.2 Gerber數(shù)據(jù)和鉆孔數(shù)據(jù) 618
30.2.1 Gerber數(shù)據(jù)的生成及檢查 618
30.2.2 鉆孔數(shù)據(jù)的生成及比較 621
30.3 版圖拼版 622
30.4 多種掩模生成 624
30.4.1 掩模生成器 624
30.4.2 掩模生成實例 626
第3部分參考資料 630
后記和致謝 632