目錄
序言
前言
物理量名稱(chēng)及符號(hào)表
第1章 緒論 1
1.1 引言 1
1.2 三階非線(xiàn)性光學(xué)表征技術(shù)簡(jiǎn)介 3
1.3 簡(jiǎn)述三階非線(xiàn)性光學(xué)材料 4
1.3.1 有機(jī)分子材料 5
1.3.2 玻璃 5
1.3.3 鐵電薄膜 6
1.3.4 半導(dǎo)體材料 6
1.3.5 二維材料 7
1.3.6 近零折射率材料 7
1.4 本書(shū)內(nèi)容概述 7
參考文獻(xiàn) 8
第2章 三階非線(xiàn)性光學(xué)效應(yīng)的物理機(jī)理 15
2.1 電子云畸變 15
2.2 分子再取向效應(yīng) 17
2.3 電致伸縮 20
2.4 布居數(shù)重新分布 21
2.4.1 兩能級(jí)系統(tǒng) 22
2.4.2 半導(dǎo)體 24
2.5 兩光子吸收 26
2.5.1 單光束兩光子吸收 27
2.5.2 兩光束兩光子吸收 28
2.6 三光子吸收 31
2.7 激發(fā)態(tài)吸收 33
2.7.1 飽和吸收 33
2.7.2 反飽和吸收 38
2.7.3 自由載流子吸收 39
2.7.4 多光子感應(yīng)激發(fā)態(tài)吸收 40
2.8 熱致光學(xué)非線(xiàn)性 42
參考文獻(xiàn) 45
第3章 三階非線(xiàn)性光學(xué)表征技術(shù) 47
3.1 背景介紹 47
3.2 簡(jiǎn)并四波混頻 47
3.2.1 理論 49
3.2.2 實(shí)驗(yàn) 57
3.3 近簡(jiǎn)并三波混頻 61
3.3.1 理論 61
3.3.2 實(shí)驗(yàn) 62
3.4 光克爾門(mén)和橢圓旋轉(zhuǎn)法 63
3.4.1 理論 65
3.4.2 實(shí)驗(yàn) 67
3.5 兩波耦合法 69
3.5.1 理論 70
3.5.2 實(shí)驗(yàn) 71
3.6 三次諧波產(chǎn)生 73
3.6.1 理論 74
3.6.2 實(shí)驗(yàn) 76
3.7 非線(xiàn)性透過(guò)率測(cè)量 77
3.7.1 理論 78
3.7.2 實(shí)驗(yàn) 81
3.8 空間自相位調(diào)制 86
3.8.1 理論 86
3.8.2 實(shí)驗(yàn) 87
3.9 Z-掃描技術(shù) 88
參考文獻(xiàn) 89
第4章 Z-掃描技術(shù) 93
4.1 理論基礎(chǔ) 93
4.2 Z掃描的定性描述 96
4.3 Z掃描表征純?nèi)�階非線(xiàn)性折射效應(yīng) 100
4.4 三階非線(xiàn)性折射和吸收共存時(shí)的Z-掃描技術(shù) 107
4.5 Z掃描實(shí)驗(yàn)注意事項(xiàng) 111
4.5.1 何為遠(yuǎn)場(chǎng)小孔光闌的位置 112
4.5.2 光闌孔徑的大小和是否離軸 113
4.5.3 薄樣品近似關(guān)于樣品厚度 114
4.5.4 激光束參數(shù) 115
4.5.5 樣品質(zhì)量 116
參考文獻(xiàn) 118
第5章 Z-掃描表征高階非線(xiàn)性光學(xué)效應(yīng) 121
5.1 背景介紹 121
5.2 多光子吸收 121
5.3 兩種多光子吸收效應(yīng)共存 129
5.4 多光子感應(yīng)激發(fā)態(tài)吸收 133
5.5 三階非線(xiàn)性折射與多光子吸收共存 140
5.6 三階和五階非線(xiàn)性折射效應(yīng)共存 145
參考文獻(xiàn) 154
第6章 Z-掃描表征飽和非線(xiàn)性光學(xué)效應(yīng) 159
6.1 背景介紹 159
6.2 飽和吸收 160
6.3 兩光子吸收飽和 168
6.4 三光子吸收飽和 174
6.5 銫和吸收和兩光子吸收共存 181
6.6 飽和克爾非線(xiàn)性 185
參考文獻(xiàn) 192
第7章 偏振光Z-掃描技術(shù) 196
7.1 背景介紹 196
7.2 橢圓偏振光Z-掃描表征各向同性光學(xué)非線(xiàn)性 197
7.2.1 橢圓偏振高斯光束 197
7.2.2 偏振依賴(lài)的各向同性三階非線(xiàn)性極化率 198
7.2.3 純?nèi)�階非線(xiàn)性折射時(shí)的橢圓偏振高斯光束Z-掃描技術(shù) 199
7.2.4 各向同性光學(xué)非線(xiàn)性時(shí)的橢圓偏振高斯光束Z-掃描技術(shù) 202
7.3 線(xiàn)偏振光Z-掃描表征各向異性光學(xué)非線(xiàn)性 204
7.3.1 線(xiàn)偏振光激發(fā)下立方晶體中的各向異性非線(xiàn)性極化率 204
7.3.2 表征各向異性光學(xué)非線(xiàn)性的線(xiàn)偏振光Z-掃描技術(shù) 206
7.4 橢圓偏振光Z掃描表征各向異性光學(xué)非線(xiàn)性 210
7.4.1 橢圓偏振光激發(fā)下立方晶體中的各向異性非線(xiàn)性極化率 210
7.4.2 表征各向異性折射非線(xiàn)性的橢圓偏振光Z-掃描理論 212
7.4.3 表征各向異性?xún)晒庾游�收的橢圓偏振光Z-掃描技術(shù) 214
7.4.4 各向異性光學(xué)非線(xiàn)性的橢圓偏振光Z-掃描技術(shù) 217
參考文獻(xiàn) 219
第8章 多種改進(jìn)型Z-掃描技術(shù) 221
8.1 背景介紹 221
8.2 帽頂光束Z-掃描 222
8.3 準(zhǔn)一維狹縫光束Z-掃描 226
8.4 厚光學(xué)介質(zhì)Z-掃描 230
8.5 遮擋Z-掃描 236
8.6 雙色光Z-掃描 238
8.7 雙光束時(shí)間分辨Z-掃描 240
8.8 反射Z-掃描 241
8.9 I-掃描 242
8.10 Z-掃描表征非局域非線(xiàn)性光學(xué)效應(yīng) 244
參考文獻(xiàn) 246
第9章 多種材料的光學(xué)非線(xiàn)性特性 250
9.1 典型的溶劑 250
9.2 有機(jī)材料 254
9.2.1 共軛分子和聚合物 254
9.2.2 電荷轉(zhuǎn)移分子 258
9.2.3 液晶分子 259
9.3 玻璃 265
9.4 鐵電薄膜 272
9.5 半導(dǎo)體 276
9.5.1 體（三維）半導(dǎo)體 277
9.5.2 低維半導(dǎo)體 279
9.6 二維材料 284
9.6.1 石墨烯家族 285
9.6.2 二維硫化物 289
9.6.3 二維氧化物 293
9.7 近零折射率材料 297
參考文獻(xiàn) 299