第1章 計(jì)量與材料計(jì)量
1．1 計(jì)量概述
1．2 計(jì)量與測(cè)量
1．2．1 測(cè)量
1．2．2 計(jì)量
1．2．3 計(jì)量特點(diǎn)
1．3 測(cè)量誤差與測(cè)量不確定度
1．3．1 測(cè)量誤差
1．3．2 測(cè)量不確定度
1．4 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
1．5 計(jì)量的作用
1．5．1 計(jì)量對(duì)國(guó)民經(jīng)濟(jì)的作用
1．5．2 計(jì)量在基礎(chǔ)研究中的作用
1．6 材料計(jì)量概述
1．6．1 材料計(jì)量研究?jī)?nèi)容
1．6．2 材料計(jì)量研究成果及社會(huì)服務(wù)
1．6．3 材料計(jì)量國(guó)內(nèi)外現(xiàn)狀
1．7 國(guó)際計(jì)量組織
1．7．1 國(guó)際計(jì)量局（BIPM）
1．7．2 亞太計(jì)量規(guī)劃組織（APMP）
1．7．3 先進(jìn)材料與標(biāo)準(zhǔn)凡爾賽合作計(jì)劃（VAMAS）
1．8 計(jì)量比對(duì)
1．9 總結(jié)與展望
1．9．1 總結(jié)
1．9．2 展望
參考文獻(xiàn)

第2章 國(guó)家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施及石墨烯材料計(jì)量
2．1 我國(guó)古代質(zhì)量觀——-度量衡
2．2 現(xiàn)代質(zhì)量觀——-國(guó)家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施
2．3 計(jì)量在國(guó)家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施中的基礎(chǔ)地位
2．4 納米技術(shù)對(duì)計(jì)量技術(shù)的需求
2．5 石墨烯材料產(chǎn)業(yè)國(guó)家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施技術(shù)發(fā)展
2．6 石墨烯材料關(guān)鍵特性參數(shù)調(diào)研
參考文獻(xiàn)

第3章 石墨烯材料拉曼光譜計(jì)量技術(shù)
3．1 概述
3．2 拉曼光譜儀溯源
3．2．1 拉曼光譜測(cè)量原理
3．2．2 拉曼頻移的溯源
3．2．3 拉曼相對(duì)強(qiáng)度的溯源
3．3 拉曼頻移和相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制
3．3．1 拉曼頻移標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
3．3．2 拉曼相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
3．4 基于拉曼頻移和相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)校準(zhǔn)拉曼光譜儀的方法
3．4．1 基于拉曼頻移標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)校準(zhǔn)拉曼光譜儀的方法
3．4．2 基于拉曼相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)校準(zhǔn)拉曼光譜儀的方法
3．5 石墨烯材料拉曼光譜測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)方法
3．5．1 測(cè)量方法研究
3．5．2 標(biāo)準(zhǔn)方法建立過(guò)程中的國(guó)內(nèi)比對(duì)
3．6 小結(jié)
參考文獻(xiàn)

第4章 X射線衍射法測(cè)量石墨烯材料晶體結(jié)構(gòu)
4．1 概述
4．2 設(shè)備溯源和校準(zhǔn)
4．2．1 設(shè)備溯源
4．2．2 設(shè)備校準(zhǔn)
4．3 測(cè)量方法研究
4．3．1 測(cè)量樣品準(zhǔn)備
4．3．2 取樣原則
4．3．3 測(cè)量條件
4．3．4 圖譜分析及數(shù)據(jù)處理
4．4 計(jì)量比對(duì)
4．5 標(biāo)準(zhǔn)方法
4．6 小結(jié)
參考文獻(xiàn)

第5章 原子力顯微鏡法測(cè)量石墨烯材料厚度
5．1 概述
5．2 原子力顯微鏡技術(shù)原理
5．3 原子力顯微鏡設(shè)備校準(zhǔn)與溯源
5．4 測(cè)量方法建立
5．4．1 AFM掃描模式的選擇
5．4．2 AFM測(cè)量用基底的影響
5．4．3 AFM測(cè)量參數(shù)的影響
5．4．4 AFM數(shù)據(jù)分析處理的方法
5．4．5 不確定度評(píng)定
5．5 計(jì)量比對(duì)
5．5．1 比對(duì)樣品的選取
5．5．2 國(guó)內(nèi)比對(duì)
5．5．3 國(guó)際比對(duì)
5．6 測(cè)量方法標(biāo)準(zhǔn)化
5．7 小結(jié)
參考文獻(xiàn)

第6章 石墨烯材料電子顯微鏡計(jì)量技術(shù)
6．1 掃描電鏡測(cè)量石墨烯材料片層尺寸和覆蓋度
6．1．1 掃描電鏡溯源及校準(zhǔn)
6．1．2 石墨烯片層尺寸測(cè)量方法
6．1．3 大范圍金屬基底上石墨烯薄膜覆蓋度的測(cè)量方法
6．2 透射電鏡測(cè)量石墨烯材料形貌、層數(shù)和層間距
6．2．1 透射電鏡校準(zhǔn)溯源
6．2．2 透射電鏡放大倍率校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
6．2．3 透射電鏡校準(zhǔn)方法
6．2．4 石墨烯形貌、層數(shù)和層間距的透射電鏡測(cè)量方法
6．3 小結(jié)
參考文獻(xiàn)

第7章 石墨烯粉體化學(xué)成分測(cè)量技術(shù)
7．1 概述
7．2 XPS儀器測(cè)量要求
7．2．1 XPS儀器簡(jiǎn)介
7．2．2 XPS儀器檢定校準(zhǔn)
7．2．3 XPS儀器檢定校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)
7．2．4 XPS儀器檢測(cè)注意事項(xiàng)
7．3 石墨烯粉體的C-O測(cè)量技術(shù)研究
7．3．1 測(cè)量樣品選取
7．3．2 石墨烯粉體XPS測(cè)量方法開(kāi)發(fā)
7．3．3 石墨烯粉體C/O測(cè)量實(shí)例
7．4 ICPMS儀器測(cè)量要求
7．5 石墨烯粉體中金屬雜質(zhì)測(cè)量技術(shù)研究
7．5．1 測(cè)量樣品處理
7．5．2 石墨烯粉體的ICPMS測(cè)量程序
7．5．3 石墨烯粉體中金屬雜質(zhì)測(cè)量實(shí)例
7．6 標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量方法開(kāi)發(fā)
7．7 小結(jié)
參考文獻(xiàn)

附錄1 X射線衍射儀的溯源性研究
附錄2 掠入射X射線反射膜厚測(cè)量?jī)x器校準(zhǔn)
索引