低溫等離子體被廣泛應(yīng)用于脈沖激光沉積、磁控濺射、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積等現(xiàn)代半導(dǎo)體薄膜真空沉積技術(shù)中，并承擔(dān)著薄膜組分物質(zhì)輸運(yùn)、薄膜形核與生長(zhǎng)動(dòng)力學(xué)調(diào)控等關(guān)鍵性角色。由于等離子體性質(zhì)是聯(lián)系薄膜真空沉積條件與沉積性能的關(guān)鍵性紐帶，以對(duì)等離子體性質(zhì)的表征與探測(cè)為突破口并建立其與薄膜沉積條件和性能之間的基礎(chǔ)關(guān)系，有助于從理論角度為薄膜沉積條件的設(shè)計(jì)與動(dòng)力學(xué)過(guò)程優(yōu)化提供依據(jù)。本書(shū)結(jié)合作者的長(zhǎng)期相關(guān)研究系統(tǒng)介紹了低溫等離子體的常用探測(cè)方法；重點(diǎn)結(jié)合脈沖激光沉積實(shí)例對(duì)等離子體與背景氣體間復(fù)雜的物理碰撞與化學(xué)反應(yīng)，以及對(duì)薄膜沉積的基礎(chǔ)性影響關(guān)系作詳細(xì)介紹。

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