第1章　緒論 001
1.1　顆粒的概念和特性 002
1.1.1　顆粒的概念 002
1.1.2　顆粒的特性 003
1.2　粉體的概念和特性 003
1.2.1　“粉”與“�！钡年P(guān)系 003
1.2.2　粉體的概念 003
1.2.3　粉體的特性 004
1.3　粉體技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì) 005
1.3.1　粉體技術(shù)的沿革 005
1.3.2　粉體技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì) 006

第2章　粉體的基本特性及表征 007
2.1　粉體的幾何特性 007
2.1.1　粉體的形態(tài)特性 008
2.1.2　粒徑與粒度分布 018
2.1.3　粉體比表面積 025
2.1.4　粉體幾何特性的表征 026
2.2　粉體的堆積特性 031
2.2.1　等徑球形顆粒的規(guī)則堆積 033
2.2.2　等徑球形顆粒的隨機(jī)堆積 034
2.2.3　異徑球形顆粒的堆積 035
2.2.4　非連續(xù)尺寸粒徑的顆粒堆積 036
2.2.5　連續(xù)尺寸粒徑的顆粒堆積 036
2.2.6　粉體致密堆積理論與經(jīng)驗(yàn) 036
2.3　粉體的壓縮特性 039
2.3.1　壓縮機(jī)理 039
2.3.2　壓縮應(yīng)力分布 040
2.3.3　壓縮度 040
2.3.4　粉體的壓縮性 041
2.3.5　粉體的成形性 041
2.3.6　粉體壓制成型的影響 041
　　
第3章　粉體的理化性能 043
3.1　粉體的表面物理化學(xué)特性 043
3.1.1　粉體的表面與界面效應(yīng) 044
3.1.2　粉體吸附特性 046
3.1.3　粉體表面潤(rùn)濕特性 052
3.1.4　粉體的凝聚與分散 055
3.1.5　粉體的催化性能 059
3.2　粉體的物理特性 059
3.2.1　光學(xué)性能 060
3.2.2　熱學(xué)性能 066
3.2.3　電學(xué)性能 069
3.2.4　磁學(xué)性能 073
3.3　粉體的流體力學(xué)特性 075
3.3.1　顆粒在流體中的沉降 075
3.3.2　顆粒在流體中的懸浮 081
3.3.3　流體在顆粒中的流動(dòng) 083
　　
第4章　粉體的制備方法 085
4.1　固相法 085
4.1.1　熱分解反應(yīng)法 086
4.1.2　固相化學(xué)反應(yīng)法 087
4.1.3　自蔓延高溫燃燒合成法 088
4.1.4　固態(tài)置換方法 089
4.2　液相法 089
4.2.1　沉淀法 089
4.2.2　絡(luò)合沉淀法 091
4.2.3　水熱法 091
4.2.4　水解法 092
4.2.5　溶劑熱法 093
4.2.6　溶膠-凝膠法 094
4.2.7　微乳液法 097
4.2.8　噴霧熱分解法 098
4.2.9　還原法 099
4.3　氣相法 100
4.3.1　等離子體法 100
4.3.2　化學(xué)氣相沉積法 102
　　
第5章　氧化物陶瓷粉體的制備 105
5.1　氧化鋁粉體的制備 105
5.1.1　拜耳法制備氧化鋁粉體 107
5.1.2　燒結(jié)法制備氧化鋁粉體 109
5.1.3　聯(lián)合法制備氧化鋁粉體 110
5.1.4　氧化鋁粉體的用途 113
5.1.5　超細(xì)氧化鋁粉體制備技術(shù)進(jìn)展 116
5.2　氧化鋯粉體的制備 117
5.2.1　氧化鋯的性質(zhì) 117
5.2.2　氫氧化鈉燒結(jié)法制備氧化鋯粉體 119
5.2.3　氧氯化鋯煅燒制備二氧化鋯 130
5.2.4　碳酸鈣或氧化鈣燒結(jié)法制備氧化鋯 132
5.2.5　氟硅酸鉀燒結(jié)法制備工業(yè)級(jí)二氧化鋯 135
5.2.6　納米氧化鋯粉體的制備 136
5.2.7　氧化鋯粉體的用途 147
5.3　其他氧化物粉體的制備 150
5.3.1　TiO2粉體的制備及用途 150
5.3.2　SiO2粉體的制備及用途 158
5.3.3　氧化鈹粉體的制備及用途 165
5.3.4　氧化鎂粉體的制備及用途 171
5.3.5　氧化錫粉體的制備及用途 175
5.3.6　氧化鈾粉體的制備及用途 176
5.3.7　碳酸鈣粉體的制備及用途 179
5.3.8　硅酸鋯粉體的制備及用途 185
　　
第6章　非氧化物陶瓷粉體的制備 189
6.1　碳化硅陶瓷粉體的制備 189
6.1.1　碳化硅的性質(zhì) 189
6.1.2　碳化硅粉體的用途 191
6.1.3　碳熱還原法 192
6.1.4　自蔓延高溫合成法 193
6.1.5　機(jī)械粉碎法 194
6.1.6　溶膠凝膠法 195
6.1.7　聚合物分解法 196
6.1.8　化學(xué)氣相沉積法 196
6.1.9　等離子體法 197
6.1.10　激光法 198
6.2　碳化硼陶瓷粉體的制備 199
6.2.1　碳化硼的性質(zhì) 199
6.2.2　碳化硼粉體的用途 201
6.2.3　碳熱還原法 201
6.2.4　自蔓延高溫合成法 202
6.2.5　機(jī)械合金化法 204
6.2.6　化學(xué)氣相沉積法 205
6.2.7　溶劑熱合成法 206
6.2.8　溶膠凝膠法 206
6.3　碳化鈦陶瓷粉體的制備 208
6.3.1　碳化鈦的性質(zhì) 208
6.3.2　碳化鈦粉體的制備 210
6.3.3　碳化鈦粉體的用途 226
6.4　氮化硅陶瓷粉體的制備 233
6.4.1　氮化硅陶瓷粉體的性質(zhì) 233
6.4.2　碳熱還原法 234
6.4.3　硅粉直接氮化法 235
6.4.4　鹵化硅氨解法 236
6.4.5　氮化硅陶瓷粉體的用途 236
6.5　氮化硼陶瓷粉體的制備 238
6.5.1　氮化硼粉體的性質(zhì) 238
6.5.2　氮化硼粉體的制備方法 239
6.5.3　氮化硼粉體的主要用途 242
6.6　氮化鋁陶瓷粉體的制備 243
6.6.1　氮化鋁粉體的性質(zhì) 243
6.6.2　氮化鋁粉體的制備方法 244
6.6.3　氮化鋁粉體的應(yīng)用 245
6.7　氮化鈦陶瓷粉體的制備 245
6.7.1　氮化鈦陶瓷粉體的基本性質(zhì) 245
6.7.2　氮化鈦陶瓷粉體的制備方法 246
6.7.3　氮化鈦陶瓷粉體的主要用途 248
6.8　塞隆陶瓷粉體的制備 248
6.8.1　塞隆陶瓷粉體的基本性質(zhì) 248
6.8.2　塞隆陶瓷粉體的制備 249
6.8.3　塞隆陶瓷粉體的應(yīng)用 251
6.9　其他非氧化物陶瓷粉體的制備 252
6.9.1　硼化物基本性能與粉體的制備 252
6.9.2　硅化物性能與粉體的制備 261
　　
參考文獻(xiàn) 267