本書匯集了作者幾十年來在電子薄膜生長(zhǎng)制備方面的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)積累, 首先對(duì)薄膜生長(zhǎng)的機(jī)理與機(jī)制性問題, 如氣體分子運(yùn)動(dòng)規(guī)律、吸附現(xiàn)象、等離體理論、襯底表面張應(yīng)力與附著力、表面與界面物理化學(xué)處理機(jī)制、薄膜生長(zhǎng)應(yīng)力機(jī)制等方面進(jìn)行了論述和分析, 給出一些實(shí)例和分析手段, 其次對(duì)電子薄膜生長(zhǎng)制備技術(shù)中真空背景環(huán)境的獲得, 包括不同真空泵的原理和獲得高真空度的方法等做了詳盡介紹和分析。