本書從可測量光學(xué)量(吸收系數(shù)、反射率、透射率、發(fā)光效率等)的簡介開始,描述了測量所需的基本儀器設(shè)備，介紹了光譜學(xué)常用器件(包括光源、單色儀、探測器等)的工作原理和主要特點，建立了介電常數(shù)與可測量光學(xué)量(吸收系數(shù)、反射率)的聯(lián)系，介紹了金屬、絕緣體和半導(dǎo)體相關(guān)的光譜性質(zhì)，討論了靜態(tài)晶體場模型和動態(tài)位形坐標(biāo)模型對活性中心光譜性質(zhì)的影響，分析了三價稀土和過渡金屬離子的主要光學(xué)性質(zhì),最后簡單地探討了群論在光譜中的應(yīng)用。