前言
太赫茲波在電磁波譜中位于微波與紅外之間，具有一些特殊的性質(zhì)。在太赫茲頻段下有效獲取并分析目標(biāo)的散射數(shù)據(jù)，對(duì)于目標(biāo)建模與識(shí)別有著重要作用，對(duì)于隱身/反隱身技術(shù)也有著重要意義。本書的研究目的是為建立太赫茲頻段目標(biāo)電磁散射特性模擬測(cè)量能力奠定技術(shù)基礎(chǔ)。太赫茲頻段目標(biāo)電磁散射模擬測(cè)量技術(shù)的發(fā)展可以擴(kuò)大目標(biāo)電磁散射測(cè)量的應(yīng)用范圍，可以在相對(duì)較小的電波暗室內(nèi)測(cè)量超電大尺寸的目標(biāo)縮比模型的雷達(dá)散射截面（Radar Cross Section,RCS）。所以，研究太赫茲頻段的目標(biāo)電磁散射模擬測(cè)量技術(shù)是目標(biāo)電磁散射特性研究的基礎(chǔ)及重要手段。國內(nèi)現(xiàn)有室內(nèi)目標(biāo)電磁散射模擬測(cè)量的最高頻率為110 GHz，超過110 GHz的測(cè)量能力尚不足。本書的研究目標(biāo)是將室內(nèi)目標(biāo)電磁散射特性模擬測(cè)量的工作頻率提高至300 GHz。本書圍繞太赫茲頻段目標(biāo)電磁散射模擬測(cè)量的關(guān)鍵技術(shù)和關(guān)鍵設(shè)備，完成了太赫茲頻段定標(biāo)技術(shù)、太赫茲頻段緊縮場(chǎng)系統(tǒng)及太赫茲頻段目標(biāo)電磁散射測(cè)量系統(tǒng)的研究。本書的主要研究?jī)?nèi)容如下：

1）定量分析并研究了太赫茲頻段非理想金屬球體及涂覆金屬球體的RCS特性，進(jìn)一步提出太赫茲頻段定標(biāo)球的加工和使用管理準(zhǔn)則。通過對(duì)不規(guī)則定標(biāo)球體RCS的仿真計(jì)算研究，揭示了在300 GHz頻段不規(guī)則定標(biāo)球體RCS在不同幾何參數(shù)和電參數(shù)等因素作用下的影響規(guī)律，并對(duì)不同表面處理金屬球樣品的目標(biāo)散射特性進(jìn)行測(cè)試驗(yàn)證。研究成果為300 GHz頻段目標(biāo)電磁散射模擬測(cè)量定標(biāo)實(shí)現(xiàn)方法提供了理論支撐。

2）設(shè)計(jì)并實(shí)現(xiàn)了一套300 GHz頻段單反射面緊縮場(chǎng)系統(tǒng)，在定量分析的基礎(chǔ)上提出了接收端和饋源精密調(diào)整機(jī)構(gòu)設(shè)置的必要性及其誤差控制要求。根據(jù)設(shè)計(jì)和誤差控制要求，對(duì)新研制的300 GHz頻段緊縮場(chǎng)系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)樣機(jī)進(jìn)行了緊縮場(chǎng)靜區(qū)范圍性能指標(biāo)的測(cè)試驗(yàn)證。

3）設(shè)計(jì)并實(shí)現(xiàn)了一套基于步進(jìn)頻相參體制200 GHz頻段收發(fā)測(cè)量系統(tǒng)。在分別對(duì)系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案和樣機(jī)技術(shù)指標(biāo)測(cè)試結(jié)果進(jìn)行詳細(xì)敘述的基礎(chǔ)上，應(yīng)用研制的200 GHz頻段步進(jìn)頻率相參收發(fā)測(cè)量系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)樣機(jī)完成了雷達(dá)一維成像實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，RCS測(cè)量誤差和系統(tǒng)距離分辨率滿足設(shè)計(jì)要求，為目標(biāo)電磁散射模擬測(cè)量技術(shù)研究提供了一種高效實(shí)用的測(cè)試手段。

4）完成了太赫茲頻段基于緊縮場(chǎng)系統(tǒng)的典型目標(biāo)模擬測(cè)量實(shí)驗(yàn)。綜合應(yīng)用前幾章的研究成果，對(duì)太赫茲頻段典型目標(biāo)電磁散射特性進(jìn)行了測(cè)量實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。分別應(yīng)用300 GHz頻段緊縮場(chǎng)系統(tǒng)、200 GHz 頻段收發(fā)測(cè)量系統(tǒng)和300 GHz頻段矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀，對(duì)200 GHz頻段和300 GHz頻段的定標(biāo)誤差、單目標(biāo)電磁散射特性及雙目標(biāo)電磁散射特性分別進(jìn)行了一維成像實(shí)驗(yàn)，得到了200 GHz頻段和300 GHz頻段定標(biāo)誤差、目標(biāo)RCS、目標(biāo)距離及距離分辨率等基礎(chǔ)數(shù)據(jù)，為后續(xù)太赫茲頻段目標(biāo)電磁散射測(cè)量技術(shù)發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。