目錄
序言
第1章 光學參量過程概述1
1.1 壓縮態(tài)光場制備研究進展1
1.1.1 光纖中的壓縮光制備2
1.1.2 波導中的壓縮光制備5
1.1.3 原子氣室中的壓縮光制備8
1.1.4 三種介質材料壓縮態(tài)制備研究現(xiàn)狀11
1.1.5 光學參量振蕩技術及研究現(xiàn)狀12
1.2 光學參量振蕩器14
1.2.1 光學非線性過程簡介14
1.2.2 光學參量放大與光學參量振蕩19
1.2.3 簡并與非簡并光學參量振蕩器25
1.3 光學參量過程的噪聲特性28
1.3.1 光學參量振蕩器的運動方程28
1.3.2 輸出態(tài)的噪聲方差31
1.4 影響壓縮度的關鍵因素33
1.4.1 技術噪聲34
1.4.2 光學損耗35
1.4.3 相位噪聲37
參考文獻39
第2章 光學諧振腔技術43
2.1 光學諧振腔的分類44
2.2 光學諧振腔的傳輸特性44
2.2.1 光學諧振腔的能量傳輸44
2.2.2 光學諧振腔的傳輸函數(shù)48
2.2.3 光學諧振腔的噪聲特性51
2.2.4 光學諧振腔的應用53
2.3 模式清潔器技術58
2.3.1 模式清潔器的結構58
2.3.2 模式清潔器的濾波特性59
2.3.3 模式清潔器的功能和用途61
2.4 光學參量腔技術64
參考文獻67
第3章 光場調制技術70
3.1 光場調制的基本概念70
3.1.1 振幅調制70
3.1.2 頻率調制和相位調制71
3.2 光場調制的物理基礎74
3.2.1 電光調制的物理基礎74
3.2.2 聲光調制的物理基礎76
3.3 橫向電光強度調制83
3.4 電光相位調制87
3.4.1 電光相位調制的原理87
3.4.2 存在剩余振幅調制的電光相位調制89
3.4.3 抑制剩余振幅調制技術92
3.5 電光調制器的電學性能96
參考文獻98
第4章 激光噪聲抑制技術100
4.1 強度噪聲100
4.1.1 強度噪聲理論基礎100
4.1.2 強度噪聲的測量與表征104
4.1.3 強度噪聲抑制技術109
4.2 相位噪聲122
4.2.1 相位噪聲的頻譜特性
4.2.2 相位噪聲的測量與表征126
4.2.3 相位噪聲抑制技術133
參考文獻136
第5章 激光穩(wěn)頻技術138
5.1 激光穩(wěn)頻概述138
5.1.1 頻率穩(wěn)定性的來源與定義138
5.1.2 影響頻率穩(wěn)定性的因素139
5.1.3 穩(wěn)頻的方法與基本思想141
5.2 飽和吸收穩(wěn)頻143
5.2.1 飽和吸收穩(wěn)頻的基本物理思想143
5.2.2 飽和吸收穩(wěn)頻的基本構造143
5.2.3 常見飽和吸收穩(wěn)頻方法144
5.2.4 影響飽和吸收穩(wěn)頻頻率穩(wěn)定性的因素146
5.3 光學腔穩(wěn)頻.147
5.3.1 光學腔穩(wěn)頻的基本物理思想147
5.3.2 光學腔幅度特性穩(wěn)頻法147
5.4 PDH穩(wěn)頻148
5.4.1 PDH穩(wěn)頻的基本物理思想148
5.4.2 PDH穩(wěn)頻的基本構造149
5.4.3 PDH穩(wěn)頻的定量模型150
5.4.4 PDH穩(wěn)頻的噪聲源155
5.5 PDH穩(wěn)頻在光學參量振蕩器中的應用156
5.5.1 RAM引起腔失諧的研究156
5.5.2 RAM引起相位起伏的研究159
參考文獻160
第6章 光電探測技術163
6.1 光電探測器163
6.1.1 光電探測原理163
6.1.2 光電二極管介紹165
6.2 PDH穩(wěn)頻應用的光電探測器166
6.2.1 寬帶光電探測器166
6.2.2 共振型光電探測器170
6.3 量子噪聲探測及探測器應用176
6.3.1 貝爾態(tài)探測176
6.3.2 平衡零拍探測193
參考文獻208
第7章 壓縮態(tài)光場的實驗制備211
7.1 光學損耗與相位噪聲212
7.1.1 光學損耗213
7.1.2 相位噪聲223
7.2 明亮壓縮態(tài)光場的制備228
7.2.1 明亮壓縮態(tài)光場制備實驗裝置228
7.2.2 明亮壓縮態(tài)光場制備實驗結果229
7.3 壓縮真空態(tài)光場實驗制備及理論擬合230
7.3.1 壓縮真空態(tài)光場制備實驗裝置230
7.3.2 壓縮真空態(tài)光場制備實驗結果232
7.3.3 實驗結果與理論擬合232
7.4 聲頻段壓縮真空態(tài)光場的制備.234
7.4.1 相干控制技術234
7.4.2OPO腔長鎖定235
7.4.3 聲頻段壓縮真空態(tài)光場制備實驗裝置235
7.4.4 聲頻段壓縮真空態(tài)光場制備實驗結果237
7.5 本章小結239
參考文獻239
第8章 糾纏態(tài)光場的實驗制備243
8.1 相位角控制精度對糾纏態(tài)的影響243
8.1.1 相位角控制精度與糾纏度的關系244
8.1.2 實驗裝置和結果分析248
8.2 雙模糾纏態(tài)光場的制備251
8.2.1 雙模糾纏態(tài)理論模型252
8.2.2 雙模糾纏態(tài)理論分析255
8.2.3 實驗裝置和結果分析257
8.3 邊模糾纏態(tài)光場的制備260
8.3.1 邊模糾纏的產生260
8.3.2 邊模濾波與操控261
8.3.3 邊模糾纏的探測266
8.4 本章小結269
參考文獻270
結束語274