第1章 X射線光電子能譜分析技術(shù)
1.1 引言
1.2 儀器構(gòu)造與樣品制備
1.2.1 X射線源
1.2.2 超高真空系統(tǒng)（IJHV）
1.2.3 分析器與數(shù)據(jù)系統(tǒng)
1.2.4 其他附件
1.2.5 靈敏度和檢測(cè)限
1.2.6 清潔表面制備
1.3 基本原理
1.3.1 XPS的物理基礎(chǔ)
1.3.2 XPS譜的結(jié)合能參照基準(zhǔn)
1.3.3 結(jié)合能化學(xué)位移
1.4 XPS在化學(xué)上的應(yīng)用及實(shí)例解析
1.4.1 定性分析
1.4.2 定量分析
1.5 新技術(shù)
1.5.1 單色化XPS（Mono XPS）和小面積XPS（SAXPS）
1.5.2 SAXPS深度剖析
1.5.3 成像XPS（iXPS）
1.5.4 XPS線掃描分析
本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)

第2章 X射線粉末衍射分析技術(shù)
2.1 引言
2.2 X射線粉末衍射儀
2.2.1 基本構(gòu)造
2.2.2 工作原理
2.2.3 試樣制備
2.2.4 應(yīng)用及圖例解析
本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)

第3章 俄歇電子能譜分析技術(shù)
3.1 引言
3.2 俄歇表面分析技術(shù)的基本理論
3.2.1 俄歇過(guò)程和俄歇電子
3.2.2 俄歇電子能量與特征譜線的關(guān)系
3.2.3 俄歇電子的強(qiáng)度
3.2.4 化學(xué)效應(yīng)
3.3 儀器結(jié)構(gòu)
3.3.1 樣品室
3.3.2 電子槍
3.3.3 氬離子槍
3.3.4 電子能量分析器
3.3.5 檢測(cè)器
3.3.6 真空系統(tǒng)
3.3.7 俄歇電子能譜儀的分辨率和靈敏度
3.4 實(shí)驗(yàn)技術(shù)
3.4.1 樣品的制備技術(shù)
3.4.2 離子束濺射技術(shù)
3.4.3 樣品的荷電問題
3.4.4 俄歇電子能譜的采樣深度
3.5 俄歇電子能譜圖的分析技術(shù)
3.5.1 表面元素定性鑒定
3.5.2 表面元素的半定量分析
3.5.3 表面元素的化學(xué)價(jià)態(tài)分析
3.5.4 深度分析
3.5.5 微區(qū)分析
3.6 俄歇電子能譜的應(yīng)用
3.6.1 表面檢查和污染分析
3.6.2 在金屬、半導(dǎo)體方面的應(yīng)用
3.6.3 吸附和催化方面的應(yīng)用
3.6.4 在薄膜、厚膜、多層膜方面的應(yīng)用
3.6.5 俄歇電子能譜的功能擴(kuò)展
本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)

第4章 X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)分析技術(shù)
4.1 引言

……
第5章 固體材料的質(zhì)譜分析技術(shù)
第6章 電子顯微鏡分析技術(shù)
第7章 電子探針X射線顯微分析技術(shù)
第8章 核磁共振波譜分析技術(shù)