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雙核過(guò)渡金屬羰基配合物負(fù)離子的光電子速度成像研究
本書(shū)基于對(duì)過(guò)渡金屬羰基配合物的制備、譜學(xué)和理論研究方法、化學(xué)成鍵的梳理闡讀,通過(guò)分析飛行時(shí)間質(zhì)譜-光電子速度成像能譜,分別對(duì)Ni2(CO)n負(fù)離子、AgNi(CO)n負(fù)離子、AgFe(CO)4負(fù)離子、NbNiO(CO)n負(fù)離子、TaNiO(CO)n負(fù)離子的光電子速度成像進(jìn)行了詳實(shí)深入的實(shí)驗(yàn)研究與成果總結(jié)。本書(shū)選題新穎獨(dú)到、結(jié)構(gòu)科學(xué)合理、內(nèi)容豐富詳實(shí),開(kāi)通過(guò)研究多種雙核過(guò)渡金屬羰基配合物負(fù)離子的光電子速度成像,為相關(guān)領(lǐng)域提供了新的研究方法與優(yōu)化思路,具有一定的理論意義與出版價(jià)值。
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