《普通高等教育材料科學(xué)與工程“十二五”規(guī)劃教材:材料現(xiàn)代分析技術(shù)》首先介紹了晶體學(xué)基礎(chǔ)知識(shí),然后系統(tǒng)介紹了X射線的物理基礎(chǔ)、X射線衍射的方向與強(qiáng)度、多晶體X射線衍射分析的方法、X射線衍射儀及其在物相鑒定、宏微觀應(yīng)力與晶粒尺寸的測(cè)定、多晶體的織構(gòu)分析等方面的應(yīng)用;介紹了電子衍射的物理基礎(chǔ)、透射電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)與原理、衍射成像、運(yùn)動(dòng)學(xué)襯度理論、高分辨透射電子顯微技術(shù)、掃描電子顯微鏡的結(jié)構(gòu)與原理、電子探針及其應(yīng)用;介紹了俄歇電子能譜儀(AES)、X射線光電子能譜儀(XPS)、掃描隧道電鏡(STM)、低能電子衍射(LEED)等常用表面分析技術(shù)和熱重分析法(TG)、差熱分析法(DTA)、差示掃描量熱法(DSC)等常用熱分析技術(shù)的原理、特點(diǎn)及其應(yīng)用;最后簡(jiǎn)要介紹了光譜分析技術(shù),包括原子光譜、紅外光譜、激光光譜等。書(shū)中研究和測(cè)試的材料包括金屬材料、無(wú)機(jī)非金屬材料、高分子材料、非晶態(tài)材料、金屬間化合物、復(fù)合材料等。對(duì)每章內(nèi)容作了提綱式的小結(jié),并附有適量的思考題。書(shū)中采用了一些作者尚未發(fā)表的圖片和曲線,同時(shí)在實(shí)例分析中還注重引入了一些當(dāng)前材料界最新的研究成果。
《普通高等教育材料科學(xué)與工程“十二五”規(guī)劃教材:材料現(xiàn)代分析技術(shù)》可作為材料科學(xué)與工程學(xué)本科生的學(xué)習(xí)用書(shū),也可供相關(guān)學(xué)科與專業(yè)的研究生、教師和科技工作者使用。
材料、信息和能源是現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)重點(diǎn)發(fā)展的三大領(lǐng)域,而材料又是信息和能源發(fā)展的物質(zhì)基礎(chǔ),是重中之重,可以說(shuō)沒(méi)有先進(jìn)材料就沒(méi)有現(xiàn)代科技。然而,對(duì)材料的科學(xué)分析是獲得先進(jìn)材料的核心環(huán)節(jié),也是材料科學(xué)工作者的必備知識(shí)。
《材料現(xiàn)代分析技術(shù)》是在朱和國(guó)、王恒志編著的國(guó)家“十一五”規(guī)劃教材《材料科學(xué)研究與測(cè)試方法》基礎(chǔ)上全面改版而成,主要體現(xiàn)在各章節(jié)中圖表的部分更新,特別是織構(gòu)、高分辨、熱分析和光譜分析等章節(jié),刪去了應(yīng)用較少的卷積內(nèi)容,增加了高分辨的理論基礎(chǔ)及熱分析的應(yīng)用舉例,擴(kuò)充了紅外與拉曼光譜及其應(yīng)用,從而使該書(shū)的結(jié)構(gòu)更合理、內(nèi)容更充實(shí)。全書(shū)主要包括晶體學(xué)基礎(chǔ)、X射線的衍射分析及應(yīng)用、電子衍射分析及應(yīng)用、表面分析技術(shù)、熱分析技術(shù)和光譜分析技術(shù)等內(nèi)容。書(shū)中所涉及的材料包括金屬材料、無(wú)機(jī)非金屬材料、高分子材料、非晶材料、復(fù)合材料等。對(duì)每章內(nèi)容均作了提綱式的小結(jié),便于讀者復(fù)習(xí)和掌握所學(xué)內(nèi)容,對(duì)一些重要的分析方法,還列舉了相關(guān)的分析實(shí)例,幫助讀者深刻領(lǐng)會(huì)材料研究的科學(xué)思路,懂得該分析什么、為何分析及怎么分析。全書(shū)力求內(nèi)容深度適中,表述繁簡(jiǎn)結(jié)合,通俗易懂。
本書(shū)是南京理工大學(xué)一線教師共同努力、辛勤耕耘的結(jié)果。全書(shū)共11章并有附錄,第1章~第9章及附錄由朱和國(guó)編寫;第10章由杜宇雷、朱和國(guó)編寫;第11章由趙軍編寫,全書(shū)由朱和國(guó)統(tǒng)稿,劉金強(qiáng)主審。
……
第1章 晶體學(xué)基礎(chǔ)
1.1 晶體及其基本性質(zhì)
1.1.1 晶體的概念
1.1.2 空間點(diǎn)陣的四要素
1.1.3 布拉菲陣胞
1.1.4 典型晶體結(jié)構(gòu)
1.1.5 晶體的基本性質(zhì)
1.1.6 準(zhǔn)晶體簡(jiǎn)介
1.2 晶向、晶面及晶帶
1.2.1 晶向及其表征
1.2.2 晶面及其表征
1.2.3 晶帶及其表征
1.3 晶體的宏觀對(duì)稱及點(diǎn)群
1.3.1 對(duì)稱的概念
1.3.2 對(duì)稱元素及對(duì)稱操作
1.3.3 對(duì)稱元素的組合及點(diǎn)群
1.3.4 晶體的分類
1.3.5 準(zhǔn)晶體的點(diǎn)群及其分類
1.3.6 點(diǎn)群的國(guó)際符號(hào)
1.3.7 點(diǎn)群的圣佛利斯符號(hào)
1.4 晶體的微觀對(duì)稱與空間群
1.4.1 晶體的微觀對(duì)稱
1.4.2 晶體的空間群及其符號(hào)
1.5 晶體的投影
1.5.1 球面投影
1.5.2 極式網(wǎng)與烏氏網(wǎng)
1.5.3 晶帶的極射赤面投影
1.5.4 標(biāo)準(zhǔn)極射赤面投影圖(標(biāo)準(zhǔn)極圖)
1.6 倒易點(diǎn)陣
1.6.1 正點(diǎn)陣
1.6.2 倒易點(diǎn)陣
1.6.3 正倒空間之間的關(guān)系
1.6.4 倒易矢量的基本性質(zhì)
1.6.5 晶帶定律
1.6.6 廣義晶帶定律
本章小結(jié)
思考題
第2章 X射線的物理基礎(chǔ)
2.1 X射線的發(fā)展史
2.2 X射線的性質(zhì)
2.2.1 X射線的產(chǎn)生
2.2.2 X射線的本質(zhì)
2.3 X射線譜
2.3.1 X射線連續(xù)譜
2.3.2 X射線特征譜
2.4 X射線與物質(zhì)的相互作用
2.4.1 X射線的散射
2.4.2 X射線的吸收
2.4.3 吸收限的作用
本章小結(jié)
思考題
第3章 X射線的衍射原理
3.1 X射線衍射的方向
3.1.1 勞埃方程
3.1.2 布喇格方程
3.1.3 布喇格方程的討論
3.1.4 衍射矢量方程
3.1.5 布喇格方程的厄瓦爾德圖解
3.1.6 布喇格方程的應(yīng)用
3.1.7 常見(jiàn)的衍射方法
3.2 X射線的衍射強(qiáng)度
3.2.1 單電子對(duì)X射線的散射
3.2.2 單原子對(duì)X射線的散射
3.2.3 單胞對(duì)X射線的散射強(qiáng)度
3.2.4 單晶體的散射強(qiáng)度與干涉函數(shù)
3.2.5 多晶體的衍射強(qiáng)度
3.2.6 影響多晶體衍射強(qiáng)度的其他因數(shù)
……
第4章 X射線的多晶衍射分析及其應(yīng)用
第5章 電子顯微分析的基礎(chǔ)
第6章 透射電子顯微鏡
第7章 薄晶體的高分辨像
第8章 掃描電子顯微鏡及電子探針
第9章 表面分析技術(shù)
第10章 熱分析技術(shù)
第11章 光譜分析技術(shù)
附錄