目錄
《微納制造的基礎研究學術著作叢書》序
序
前言
第1章柔性電子技術概述1
1.1引言1
1.2柔性電子的發(fā)展歷程5
1.3柔性電子器件基本結構7
1.3.1電子元件8
1.3.2柔性基板9
1.3.3互聯(lián)導體10
1.3.4密封層11
1.4柔性電子制造關鍵技術12
1.4.1多功能電子材料12
1.4.2低成本制造工藝13
1.4.3電子器件可靠性15
1.5柔性電子制造的挑戰(zhàn)17
參考文獻18
第2章柔性電子的功能材料22
2.1柔性電子的材料要求22
2.2材料的選擇與制備24
2.3柔性電子絕緣材料28
2.3.1絕緣性29
2.3.2介電性30
2.3.3電擊穿32
2.3.4電場極化33
2.4柔性電子半導體材料34
2.4.1硅半導體35
2.4.2金屬氧化物半導體36
2.4.3有機聚合物半導體39
2.5柔性電子導體材料43
2.5.1金屬導體43
2.5.2聚合物導體44
2.5.3納米材料導體50
2.6柔性電子基板材料52
2.7電致發(fā)光材料56
2.8光伏材料58
2.8.1光伏發(fā)電原理58
2.8.2電子給體材料與受體材料59
2.8.3光伏器件結構63
參考文獻67
第3章柔性功能器件76
3.1薄膜晶體管76
3.1.1晶體管結構形式78
3.1.2晶體管工作原理83
3.1.3有機/無機晶體管89
3.1.4晶體管性能表征93
3.2柔性傳感器99
3.2.1半導體傳感器101
3.2.2應變式傳感器107
3.2.3光傳感器109
3.2.4物理化學傳感器113
3.2.5電容傳感器114
3.2.6壓電傳感器119
3.3柔性太陽能電池121
3.3.1肖特基型太陽能電池121
3.3.2pn異質(zhì)結太陽能電池122
3.3.3染料敏化太陽能電池124
3.3.4有機/聚合物電池126
參考文獻129
第4章柔性電子多層膜結構力學與表征134
4.1引言134
4.2薄膜-基板結構134
4.2.1膜-基結構概述134
4.2.2薄膜應力來源135
4.2.3大變形結構設計138
4.3膜-基結構失效模式140
4.3.1膜-基結構斷裂機理140
4.3.2膜-基結構裂紋擴展144
4.3.3膜-基結構分層行為145
4.3.4膜-基結構競爭斷裂行為146
4.4膜-基結構彎曲147
4.4.1薄膜彎曲147
4.4.2膜-基結構的彎曲148
4.4.3薄膜邊緣的應力集中150
4.5膜-基結構屈曲151
4.5.1屈曲基本理論151
4.5.2膜-基結構的單向屈曲152
4.5.3膜-基結構的雙向屈曲155
4.5.4膜-基結構后屈曲分析157
4.5.5薄膜幾何尺寸對膜-基結構屈曲的影響159
4.5.6膜-基結構可控屈曲163
4.5.7膜-基界面結合缺陷誘導屈曲164
4.6膜-基結構機械性能測量與表征166
4.6.1X射線衍射法表征殘余應力166
4.6.2微拉曼光譜散射測殘余應力168
4.6.3拉伸法表征膜-基界面機械性能169
4.6.4劃痕法表征膜-基界面機械性能170
4.6.5壓痕法表征薄膜機械性能171
4.6.6彎曲測試法表征薄膜機械性能174
4.6.7剪切法表征膜-基界面機械性能176
4.6.8屈曲測試法表征薄膜機械性能177
參考文獻179
第5章薄膜沉積與器件封裝184
5.1引言184
5.2物理氣相沉積185
5.2.1常規(guī)物理氣相沉積185
5.2.2離子鍍188
5.3化學氣相沉積190
5.3.1熱激活化學氣相沉積192
5.3.2等離子體增強化學氣相沉積193
5.3.3金屬有機化合物化學氣相沉積194
5.3.4光輔助化學氣相沉積195
5.3.5分子束外延生長工藝196
5.4原子層沉積197
5.5薄膜封裝200
5.5.1柔性電子器件封裝要求200
5.5.2柔性電子器件失效原因205
5.5.3薄膜封裝工藝206
5.5.4薄膜封裝中的干燥劑集成215
5.6薄膜阻隔性能檢測216
5.6.1濕度傳感器法216
5.6.2稱重法217
5.6.3鈣測試法218
5.6.4質(zhì)譜法測量220
5.6.5氧等離子體221
參考文獻221
第6章微納圖案化工藝227
6.1引言227
6.2光刻工藝228
6.3印刷工藝230
6.4軟刻蝕工藝232
6.4.1彈性軟圖章制備233
6.4.2微接觸印刷工藝234
6.4.3轉(zhuǎn)移印刷工藝236
6.5納米蘸筆直寫工藝239
6.5.1工藝原理239
6.5.2熱蘸筆直寫工藝242
6.5.3電鍍蘸筆直寫工藝243
6.5.4納米自來水筆直寫工藝244
6.5.5DPN技術的陣列化245
6.6納米壓印工藝247
6.6.1納米壓印工藝機理249
6.6.2熱壓印工藝252
6.6.3紫外壓印工藝255
6.7激光直寫技術256
6.8噴墨打印工藝259
6.8.1傳統(tǒng)噴墨打印工藝260
6.8.2電流體動力噴印工藝262
參考文獻270
第7章卷到卷制造技術279
7.1R2R制造工藝概況279
7.1.1R2R制造的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)279
7.1.2典型R2R系統(tǒng)組成281
7.2R2R制造對器件性能的影響285
7.2.1R2R工藝對幾何參數(shù)的影響286
7.2.2R2R對器件電參數(shù)性能的影響289
7.2.3R2R工藝對器件可靠性的影響291
7.3R2R系統(tǒng)張力控制293
7.3.1基板張力波動機理293
7.3.2R2R基板張力波動控制300
7.3.3基板張力分布控制303
7.4R2R系統(tǒng)糾偏控制305
7.4.1基板橫向動力學建模305
7.4.2R2R基板糾偏裝置309
7.4.3糾偏控制方法312
7.5R2R集成制造系統(tǒng)314
7.5.1R2R薄膜沉積系統(tǒng)314
7.5.2R2R印刷制造工藝316
7.5.3R2R與納米壓印/微接觸印刷320
7.5.4R2R流體自組裝324
參考文獻325
第8章柔性電子應用332
8.1概述332
8.2柔性顯示333
8.2.1電子紙334
8.2.2柔性AMOLED338
8.2.3可延展OLED342
8.3柔性能源345
8.3.1柔性薄膜太陽電池346
8.3.2智能服裝350
8.3.3可延展電池351
8.4柔性通信358
8.4.1柔性RFID358
8.4.2可延展流體天線/導體359
8.4.3柔性通信雷達363
8.5柔性傳感365
8.5.1人造電子皮膚365
8.5.2柔性光電傳感器368
8.5.3柔性驅(qū)動372
8.6柔性醫(yī)療374
8.6.1柔性智能服飾375
8.6.2柔性植入式器件377
8.6.3表皮電子378
參考文獻381
附錄中英文對照表387
索引394