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現(xiàn)有技術(shù)抗辯理論與適用問題研究

現(xiàn)有技術(shù)抗辯理論與適用問題研究

定  價:58 元

叢書名:IP知識產(chǎn)權(quán)專題研究書系

        

  • 作者:曹新明 著
  • 出版時間:2017/2/1
  • ISBN:9787513046541
  • 出 版 社:知識產(chǎn)權(quán)出版社
  • 中圖法分類:H31 
  • 頁碼:328
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:1
  • 開本:16開
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本研究遵循從理論到實踐的研究思路,前半部分研究內(nèi)容側(cè)重對現(xiàn)有技術(shù)抗辯進行理論剖析,后半部分研究內(nèi)容側(cè)重對現(xiàn)有技術(shù)抗辯的適用進行分析。本基本思路如下:從現(xiàn)有技術(shù)抗辯的內(nèi)涵入手,對現(xiàn)有技術(shù)抗辯與相關(guān)專利侵權(quán)抗辯制度進行比較,并從三方面分析了現(xiàn)有技術(shù)抗辯的理論基礎,繼而對現(xiàn)有技術(shù)抗辯中的關(guān)鍵要素——現(xiàn)有技術(shù)進行深入分析。在這些理論考察的基礎上,本文在參照美、日、德三國現(xiàn)有技術(shù)抗辯運行情況的前提下,初步提出了我國適用現(xiàn)有技術(shù)抗辯的基本規(guī)則。
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