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定 價:88 元
- 作者:[新加坡] 陳全勝 [美] 羅納德·J·古特曼[美] L·拉斐爾·賴夫
- 出版時間:2016/10/1
- ISBN:9787515912035
- 出 版 社:中國宇航出版社
- 中圖法分類:TN405
- 頁碼:
- 紙張:膠版紙
- 版次:1
- 開本:32開
本書是一部系統(tǒng)論述3D集成工藝技術的譯著,內容涵蓋前端工藝至后端工藝,詳細介紹了各種3D集成技術的適用范圍和局限性,列舉了相關工藝的典型應用和潛在應用,并指出了這些關鍵工藝中存在的問題與挑戰(zhàn)。本書適合從事立體集成、集成電路/微系統(tǒng)、先進封裝技術研究的工程技術人員以及管理人員閱讀和使用,同時也可作為高等院校相關專業(yè)師生的參考教材。 |
集成電路延續(xù)工藝線寬持續(xù)縮小和功能密度持續(xù)提升的發(fā)展方向面臨著許多難以逾越的障礙,3D集成技術是突破平面集成電路發(fā)展屏障的有效途徑。過去的幾年里,在學術界和產業(yè)界的共同努力下,3D集成技術得以成功面世。目前,3D 集成按照應用領域可劃分為不同的種類,每種技術都有望成為未來可行的技術方案。在本書出版之時,基于TSV 垂直互連的商業(yè)立體集成芯片已經問世。
撰寫一本3D集成技術書籍的想法可追溯至一年前,當時與3D集成技術相關的文章及會議大量涌現(xiàn)(現(xiàn)在也很多)。但是,在這一新興領域卻缺乏相關的參考書籍。起初的想法是撰寫一本書,但是我們很快意識到這是一項艱巨的任務,想在一本書中將不同類型的3D集成技術都闡述清楚將是一大挑戰(zhàn)。經過重新審視,我們決定編譯一本包含各大學、研究實驗室和產業(yè)界專家的研究成果的書代替原有撰寫計劃。在仔細規(guī)劃后,我們邀請了一支高水平的研究團隊來撰寫此書的各個章節(jié),從計劃出書,到撰寫、編輯,再到付梓出版歷時整整一年。
本書寫作目的是想將前封裝的晶圓級3D集成技術的新穎理念呈現(xiàn)給讀者,主要內容聚焦于3D集成工藝技術,內容涵蓋前端工藝至后端工藝。書中對每一關鍵工藝都進行了詳細的介紹,列舉了相關工藝的潛在應用,并指出這些關鍵工藝中存在的技術挑戰(zhàn)。本書適用于正在從事或準備從事3D集成技術領域的研究者或工程師。如果沒有一支高水平且具備奉獻精神的工作團隊,這本書是無法完成的。本書要特別感謝施普林格(Springer)出版社Carl Harris的大力支持,以及前期為本書所做的工作。感謝叢書編輯Anantha Chandrakasan對本書內容提出的寶貴建議。感謝與我們一道工作的Katie Stanne對書稿的編輯工作。感謝MARCO 和DARPA
聯(lián)合資助的互連研究中心(Interconnect
Focus Center,IFC)和DARPA資助的3D IC 計劃對三位聯(lián)合作者的長期支持,沒有他們的支持,3D集成技術研究及本書的編寫都無法順利實現(xiàn)。C. S. Tan早先受到SRC和應用材料研究生獎學金的部分資助, 目前在南洋理工受到Lee
Kuan Yew博士后獎學金資助。最后,對受邀撰寫此書各個章節(jié)的所有作者表示衷心的感謝。
希望本書能對從事3D集成技術相關研究的廣大讀者提供切實的幫助,如果您對本書有任何意見和建議,請及時聯(lián)系我們。 |
1單光寶,男,博士生導師,研究員,現(xiàn)為航天九院第二屆杰出青年、航天771所TSV立體集成技術負責人。先后承擔了基礎科研、自然科學基金重點項目、973子課題等多項*重點TSV立體集成項目,研制出國內首個輻射加固4層堆疊TSV SRAM樣品,推動軍用存儲器由平面集成向立體集成的跨越發(fā)展。近年來,發(fā)表學術論文30余篇,申請TSV相關發(fā)明專利17項,6項已獲授權。2吳龍勝,總師/研究員,安徽安慶,享受國務院特殊津貼,現(xiàn)為航天科技集團公司學科帶頭人、核高基總體組專家,從事集成電路、3D-IC設計工作。近年來,發(fā)表學術論文40余篇。3劉松,男,博士,陜西西安人,1988年8月出生。主要從事3D IC電學、熱機械應力可靠性研究。近年來,近年來,發(fā)表學術論文近10篇,申請TSV相關發(fā)明專利近10項。 |
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