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叢書名:現(xiàn)代應(yīng)用物理學(xué)叢書
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- 作者:賀軍輝著
- 出版時間:2020/9/1
- ISBN:9787030656933
- 出 版 社:科學(xué)出版社
- 中圖法分類:TB43
- 頁碼:106頁
- 紙張:膠版紙
- 版次:1
- 開本:16K
本書從應(yīng)用需求、自清潔和增透薄膜的定義、結(jié)構(gòu)特征、工作原理、制備和表征方法、儀器設(shè)備、研究進展、產(chǎn)業(yè)化、具體應(yīng)用及未來發(fā)展方向幾個方面,主要結(jié)合作者團隊自身開展的研究工作和取得的研究成果,較全面地介紹了自清潔增透薄膜技術(shù)及應(yīng)用。
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目錄
前言
第1章 引言 1
第2章 減反增透和自清潔表面的工作原理 6
2.1 減反射的原理 6
2.2 自清潔的原理 11
2.2.1 源于特殊表面浸潤性的自清潔 11
2.2.2 光催化自清潔 16
2.3 透明度和自清潔之間的矛盾關(guān)系 18
2.4 薄膜力學(xué)性能 20
第3章 納米結(jié)構(gòu)構(gòu)筑單元的制備和表征 23
第4章 納米結(jié)構(gòu)涂層的構(gòu)筑、表征、性能研究和優(yōu)化 34
4.1 超親水自清潔防霧減反增透涂層 35
4.2 超疏水 (或超雙疏 自清潔減反增透涂層 51
第5章 納米結(jié)構(gòu)放量實驗和涂層大面積制備 75
5.1 納米結(jié)構(gòu)的放量實驗 75
5.2 涂層的大面積制備及其應(yīng)用 77
第6章 總結(jié)和展望 80
參考文獻 87
附錄A 部分化學(xué)試劑的分子結(jié)構(gòu) 99
附錄B 常用儀器設(shè)備 100