金剛石作為第四代半導(dǎo)體材料，具有極其優(yōu)越的物理化學(xué)特性，在諸多高科技領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。金剛石拋光技術(shù)的研究不但突破了金剛石在高科技領(lǐng)域的應(yīng)用瓶頸，還帶動了一些新工藝、新方法和新技術(shù)的發(fā)展。本書以作者多年的科研成果為基礎(chǔ)，匯集國內(nèi)外金剛石領(lǐng)域的**進展，全面系統(tǒng)地對金剛石應(yīng)用和拋光技術(shù)的重要成果進行了歸納和總結(jié)，內(nèi)容主要包括：金剛石的結(jié)構(gòu)及性能，金剛石膜的應(yīng)用，金剛石膜的制備技術(shù)，金剛石膜的去除機理與拋光理論，金剛石膜的機械拋光技術(shù)、摩擦化學(xué)拋光技術(shù)、化學(xué)機械拋光技術(shù)、光催化輔助拋光技術(shù)及特種拋光技術(shù)，金剛石相關(guān)材料應(yīng)用及加工技術(shù)。

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